公开(公告)号：CN1300273C

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN03148100.0

申请日：2003-06-27

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 井上刚 ,  奥村和人 ,  矢田宽

IPC: C09J7/04 ,  B32B27/36

CPC classification number: H01J17/04 ,  C09J7/38 ,  C09J7/385 ,  H01J2211/446 ,  H05K9/0096 ,  Y10T428/12465 ,  Y10T428/28 ,  Y10T428/2804 ,  Y10T428/2843 ,  Y10T428/2848 ,  Y10T428/2857

Abstract: 本发明提供了一种保护膜，其包含基质材料和在其上形成的压敏粘合层，其中压敏粘合层的表面与二碘代甲烷在刚刚接触后测得的接触角θ1为70°或更小，在静置30秒后与二碘代甲烷的接触角的变化Δθ为8%或更小。

公开(公告)号：CN1470587A

公开(公告)日：2004-01-28

申请号：CN03148100.0

申请日：2003-06-27

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 井上刚 ,  奥村和人 ,  矢田宽

IPC: C09J7/04 ,  B32B27/36

CPC classification number: H01J17/04 ,  C09J7/38 ,  C09J7/385 ,  H01J2211/446 ,  H05K9/0096 ,  Y10T428/12465 ,  Y10T428/28 ,  Y10T428/2804 ,  Y10T428/2843 ,  Y10T428/2848 ,  Y10T428/2857

Abstract: 本发明提供了一种保护膜，其包含基质材料和在其上形成的压敏粘合层，其中压敏粘合层的表面与二碘代甲烷在刚刚接触后测得的接触角θ1为70°或更小，在静置30秒后与二碘代甲烷的接触角的变化Δθ为8％或更小。