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公开(公告)号：CN114746775B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202080081900.7
申请日：2020-11-20
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B1/115 , B32B7/023 , B32B27/18 , G02B1/14 , G02B1/18 , G02B5/02 , G02F1/1335 , G09F9/00 , H10K50/85 , H10K50/86 , H10K50/84 , H10K59/10 , H05B33/02
Abstract: 防反射薄膜(101)具备：于在透明薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)的硬涂薄膜(1)的硬涂层(11)上依次设置的防反射层(5)及防污层(7)。硬涂层包含粘结剂及粒径为1～8μm的微粒。防反射层包含层叠体，所述层叠体为折射率不同的多个薄膜的层叠体。防反射薄膜的雾度为1～18％、防污层表面的算术平均粗糙度Ra为0.05～0.25μm、凹凸的平均间隔RSm为60～200μm。
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公开(公告)号：CN111103637B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN201911019135.1
申请日：2019-10-24
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种在宽频带中具有优异的反射特性(低反射性)且着色被抑制的防反射薄膜。本发明的防反射薄膜依次具有：透明基材、从该透明基材起的依次的密合层、第一Nb2O5层、第一SiO2层、第二Nb2O5层、第二SiO2层和防污层，第一Nb2O5层的光学膜厚为28nm～33nm，第一SiO2层的光学膜厚为43nm～57nm，第二Nb2O5层的光学膜厚为264nm～288nm，第二SiO2层的光学膜厚为113nm～129nm。
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公开(公告)号：CN110954975B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201910912523.6
申请日：2019-09-25
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供带保护薄膜的光学薄膜。带保护薄膜的光学薄膜(100)包含：光学薄膜(10)，其在最表面具有防污层(4)；以及表面保护薄膜(70)，其临时附着于光学薄膜的防污层。防污层的水接触角为100°以上。保护薄膜在薄膜基材(7)上具备粘合剂层(8)。光学薄膜的防污层与表面保护薄膜的粘合剂层的粘接力不足0.07N/50mm。粘合剂层的厚度优选为16μm以上。
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公开(公告)号：CN119899596A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202411474409.7
申请日：2024-10-22
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种带表面保护膜的光学层叠体，能抑制拾取不良产生。光学层叠体(10)依次具备剥离衬里(11)、粘合剂层(12)、透明膜基材(13)、防污层(14)以及表面保护膜(15)。剥离衬里(11)的与粘合剂层(12)侧相反侧的主面(11a)为光学层叠体(10)的第一主面(10a)。表面保护膜(15)的与防污层(14)侧相反侧的主面(15a)为光学层叠体(10)的第二主面(10b)。光学层叠体(10)的第一主面(10a)的表面电阻率和光学层叠体(10)的第二主面(10b)的表面电阻率均为1.0×1013Ω/□以下。
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公开(公告)号：CN118050833A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202311525066.8
申请日：2023-11-16
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B1/18 , C08J7/04 , C09D133/08 , C09D175/14 , C09D135/02 , C08L1/12 , H01L31/0216 , C23C14/34 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供一种光学薄膜。光学薄膜(100)在透明薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)，且具备防污层(7)作为硬涂层上的最表面层。光学薄膜的反射率为1％以上。光学薄膜的防污层侧的面的油酸接触角为70°以上，防污层侧的面的算术平均高度Sa为0.1～1μm。本发明的光学薄膜在指纹等污迹附着时污迹不易显眼、并且附着的污染物质的擦拭去除性优异。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111183374B
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN201880065087.7
申请日：2018-10-26
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 硬涂薄膜(1)在薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)。硬涂层包含粘结剂树脂及无机填料，相对于粘结剂树脂100重量份，上述无机填料的含量为20～80重量份。填料的平均一次粒径优选为25～70nm。硬涂层的表面的算术平均粗糙度优选为2nm以上。硬涂层的扩散反射光的b﹡优选为‑0.2以上。
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公开(公告)号：CN111183374A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201880065087.7
申请日：2018-10-26
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 硬涂薄膜(1)在薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)。硬涂层包含粘结剂树脂及无机填料，相对于粘结剂树脂100重量份，上述无机填料的含量为20～80重量份。填料的平均一次粒径优选为25～70nm。硬涂层的表面的算术平均粗糙度优选为2nm以上。硬涂层的扩散反射光的b﹡优选为-0.2以上。
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公开(公告)号：CN115139595A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210328939.5
申请日：2022-03-30
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B23/20 , B32B17/00 , B32B17/06 , B32B17/10 , B32B27/36 , B32B27/30 , B32B27/32 , B32B33/00 , B32B7/12 , G02B1/14
Abstract: 提供硬度高、卷曲得到抑制、且视觉辨识侧表面与其它层的密合性高的硬涂薄膜、光学构件及图像显示装置。为了达到上述目的，本发明的硬涂薄膜(100a)及(100b)的特征在于，包含基材(110)、第1硬涂层(101)、第2硬涂层(102)和第3硬涂层(103)，第1硬涂层(101)、第2硬涂层(102)、基材和第3硬涂层(103)从视觉辨识侧起按照该顺序而层叠，第1硬涂层(101)及第2硬涂层(102)分别包含纳米二氧化硅颗粒，第1硬涂层(101)中所含的纳米二氧化硅颗粒(101P)的重均粒径大于第2硬涂层(102)中所含的纳米二氧化硅颗粒(102P)的重均粒径。
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公开(公告)号：CN110954975A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201910912523.6
申请日：2019-09-25
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供带保护薄膜的光学薄膜。带保护薄膜的光学薄膜(100)包含：光学薄膜(10)，其在最表面具有防污层(4)；以及表面保护薄膜(70)，其临时附着于光学薄膜的防污层。防污层的水接触角为100°以上。保护薄膜在薄膜基材(7)上具备粘合剂层(8)。光学薄膜的防污层与表面保护薄膜的粘合剂层的粘接力不足0.07N/50mm。粘合剂层的厚度优选为16μm以上。
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