公开(公告)号：CN114423598A

公开(公告)日：2022-04-29

申请号：CN202080065851.8

申请日：2020-10-28

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 山崎达也 ,  小川敏弘 ,  植敷大地

IPC: B32B7/023 ,  B32B7/12 ,  B32B27/08 ,  B32B27/18 ,  B32B27/28 ,  B32B27/30 ,  B32B27/38 ,  B32B37/12 ,  C08K5/55 ,  C09D4/00 ,  C09D5/00 ,  C09D7/63 ,  C09D163/00 ,  C09D183/00 ,  C09D185/00 ,  C09J7/30 ,  C09J11/06 ,  G02B1/14 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供能够抑制粘接剂的运行成本、并且不会损害光学层叠体的制造效率、能够保持光学层叠体的良好的粘接性的光学层叠体的制造方法等。本发明的光学层叠体的制造方法具备：通过粘接剂涂敷装置(100)将活性能量射线固化型粘接剂(ad)涂敷于为了制作光学层叠体(F)而贴合在一起的第一光学膜(F1)及第二光学膜(F2)中的至少一者的粘接剂涂敷工序，粘接剂涂敷装置具备：涂敷粘接剂的涂敷机(6)；储存粘接剂并向涂敷机供给粘接剂的第一罐(20)；以及将粘接剂密封储存、并向第一罐供给粘接剂且粘接剂的储存量比第一罐大的第二罐(30)，在粘接剂涂敷工序中，使粘接剂在第一罐与涂敷机之间循环，并且在第一罐内的粘接剂的储存量成为给定值以下时，从第二罐向第一罐供给粘接剂。