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公开(公告)号：CN205255693U
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201521020913.6
申请日：2015-12-10
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B37/12
Abstract: 本实用新型提供一种层积光学膜制造装置，其向光学膜及/或保护膜上涂敷光硬化粘接剂，并将涂敷了光硬化粘接剂的光学膜和保护膜彼此贴合并进行光硬化处理从而制造层积光学膜，所述层积光学膜制造装置的特征在于，具有：光硬化粘接剂供给装置，其向涂敷所述光硬化粘接剂的涂敷部供给光硬化粘接剂；光硬化粘接剂存储罐，其与该光硬化粘接剂供给装置连接，并存储光硬化粘接剂；在设置有所述光硬化粘接剂存储罐的通路的敞开空间中的至少外部光射入的全部开口部设置有遮光帘，所述遮光帘贴合有具有能够遮蔽或吸收波长300nm～500nm的光的功能的遮光膜。
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