公开(公告)号：CN107430374B

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201680014657.0

申请日：2016-06-21

Applicant: 新智德株式会社

Inventor： 绪佐岛健史 ,  王爽 ,  阿部修士 ,  佐藤博幸

IPC: G03G21/00 ,  B05C21/00 ,  G03G15/00

Abstract: 具有为橡胶基材的成型体的弹性体，且所述弹性体与被接触体相接触的部位至少具有表面处理层的清洁刮板，所述表面处理层是将含有异氰酸酯化合物和有机溶剂的表面处理液浸渗到所述弹性体的表层部并固化而形成，该表面处理层中的表面处理液的浸渗浓度以自表面沿深度方向缓慢减小的方式倾斜，所述表面处理层的弹性模量为60MPa以下，所述弹性体的弹性模量为3MPa以上35MPa以下，所述表面处理层的弹性模量与所述弹性体的弹性模量之差为1MPa以上25MPa以下，且根据所述弹性体在23℃下的断裂伸长率(%)、1Hz下的tanδ的峰温度(℃)和所述表面处理液的浸渗深度(μm)，以下式求出的指标M为1以上1100以下。指标M=弹性体在23℃下的断裂伸长率(%)×1Hz下的tanδ峰温度(℃)×(‑1)/表面处理液的浸渗深度(μm)。

公开(公告)号：CN107430375A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680014754.X

申请日：2016-06-21

Applicant: NOK株式会社 ,  新智德株式会社

Inventor： 绪佐岛健史 ,  阿部修士 ,  佐藤博幸

IPC: G03G21/00 ,  B05C21/00 ,  G03G15/00

CPC classification number: B08B1/005 ,  G03G21/0017

Abstract: 具有为橡胶基材的成型体的弹性体11，且弹性体11与被接触体相接触的部位至少具有表面处理层12的清洁刮板1中，表面处理层12是将含有异氰酸酯化合物和有机溶剂的表面处理液浸渗到弹性体11的表层部并固化而形成，表面处理层12的压痕弹性模量为21MPa以上56MPa以下，弹性体11的压痕弹性模量比20MPa大但为35MPa以下，表面处理层12的压痕弹性模量与弹性体11的压痕弹性模量之差为1MPa以上21MPa以下。

公开(公告)号：CN107430375B

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201680014754.X

申请日：2016-06-21

Applicant: NOK株式会社 ,  新智德株式会社

Inventor： 绪佐岛健史 ,  阿部修士 ,  佐藤博幸

IPC: G03G21/00 ,  B05C21/00 ,  G03G15/00

CPC classification number: B08B1/005 ,  G03G21/0017

Abstract: 具有为橡胶基材的成型体的弹性体11，且弹性体11与被接触体相接触的部位至少具有表面处理层12的清洁刮板1中，表面处理层12是将含有异氰酸酯化合物和有机溶剂的表面处理液浸渗到弹性体11的表层部并固化而形成，表面处理层12的压痕弹性模量为21MPa以上56MPa以下，弹性体11的压痕弹性模量比20MPa大但为35MPa以下，表面处理层12的压痕弹性模量与弹性体11的压痕弹性模量之差为1MPa以上21MPa以下。

公开(公告)号：CN107430374A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680014657.0

申请日：2016-06-21

Applicant: NOK株式会社 ,  新智德株式会社

Inventor： 绪佐岛健史 ,  王爽 ,  阿部修士 ,  佐藤博幸

IPC: G03G21/00 ,  B05C21/00 ,  G03G15/00

Abstract: 具有为橡胶基材的成型体的弹性体，且所述弹性体与被接触体相接触的部位至少具有表面处理层的清洁刮板，所述表面处理层是将含有异氰酸酯化合物和有机溶剂的表面处理液浸渗到所述弹性体的表层部并固化而形成，该表面处理层中的表面处理液的浸渗浓度以自表面沿深度方向缓慢减小的方式倾斜，所述表面处理层的弹性模量为60MPa以下，所述弹性体的弹性模量为3MPa以上35MPa以下，所述表面处理层的弹性模量与所述弹性体的弹性模量之差为1MPa以上25MPa以下，且根据所述弹性体在23℃下的断裂伸长率(%)、1Hz下的tanδ的峰温度(℃)和所述表面处理液的浸渗深度(μm)，以下式求出的指标M为1以上1100以下。指标M=弹性体在23℃下的断裂伸长率(%)×1Hz下的tanδ峰温度(℃)×(-1)/表面处理液的浸渗深度(μm)。