公开(公告)号：CN103097569B

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：CN201180042876.7

申请日：2011-08-30

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 天久勇人

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/56

Abstract: 本发明的真空成膜装置（100）是在真空状态下对多个基材（20）成膜的成膜装置，具备：用于支持基材的多个基材支持体（23）；支持并搬运多个基材支持体（23）的基材单元（2）；和具有用于搬入及搬出该基材单元（2）的搬入口（10）以及用于开闭该搬入口（10）的搬入口门（11），且用于形成真空状态的真空槽（1）。基材单元（2）支持多个基材支持体（23）以使其在向真空槽（1）的搬运方向上直列地配置；搬入口（10）根据基材单元（2）的尺寸而形成。借助于此，真空成膜装置（100）减少水分排出所需的时间而能够抑制成膜处理花费的时间。

公开(公告)号：CN103097569A

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN201180042876.7

申请日：2011-08-30

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 天久勇人

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/56

Abstract: 本发明的真空成膜装置（100）是在真空状态下对多个基材（20）成膜的成膜装置，具备：用于支持基材的多个基材支持体（23）；支持并搬运多个基材支持体（23）的基材单元（2）；和具有用于搬入及搬出该基材单元（2）的搬入口（10）以及用于开闭该搬入口（10）的搬入口门（11），且用于形成真空状态的真空槽（1）。基材单元（2）支持多个基材支持体（23）以使其在向真空槽（1）的搬运方向上直列地配置；搬入口（10）根据基材单元（2）的尺寸而形成。借助于此，真空成膜装置（100）减少水分排出所需的时间而能够抑制成膜处理花费的时间。