公开(公告)号：CN1973059A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200580020739.8

申请日：2005-09-05

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 泷川志郎 ,  加藤圭司 ,  米山信夫

IPC: C23C14/35 ,  C23C16/50 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/352 ,  B05D1/62 ,  C23C14/205 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3447

Abstract: 本发明提供将圆筒构件的一部分作为靶使用，而且有意利用该圆筒构件附加等离子体聚合功能的的真空成膜装置。真空成膜装置(100)具备具有内部空间的导电性真空槽(13)、在内部空间(10)并排配置多个弯曲成扇形的弯曲构件(31、32)，以此形成大致圆筒形从而形成的框体(15)、配置于被框体(15)包围的内部，沿着框体(15)的圆周方向形成磁场的磁场形成装置(33)，弯曲构件(15、16)中的至少一个是使用于溅射的靶，而且是除了靶的框体(15)的区域外被使用于等离子体聚合的装置。