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发明公开
真空密封装置和真空室装置审中-实审

公开(公告)号：CN117108743A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202310532819.1

申请日：2023-05-12

Applicant: 新东工业株式会社

Inventor： 近藤丈雅 , 古川恭治 , 铃木启太 , 芳贺悠纪 , 铃木淳

IPC: F16J15/16 , B65H18/02 , B65H20/02

Abstract: 本发明提供真空密封装置和真空室装置。真空密封装置(15)具备第1辊(21)、与第1辊接触的第2辊(22)、具有保持第1辊并与第1辊同轴的第1空间(25a)的第1保持构件(25)、具有保持第2辊(22)并与第2辊同轴的第2空间(26a)的第2保持构件(26)。第1保持构件的内周面(26c)与第1辊的外周面相对，通过使第1辊与第2辊对应地旋转，使片材通过。

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