公开(公告)号：CN110129744A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910337427.3

申请日：2012-04-27

申请人： 捷客斯金属株式会社

发明人： 塚本志郎 ,  牧野修仁 ,  福岛笃志 ,  八木和人 ,  日野英治

IPC分类号： C23C14/34 ,  C25C3/28

摘要： 一种溅射用钛靶，其为高纯度钛靶，其特征在于，含有0.5～5质量ppm的S作为添加成分，除了添加成分和气体成分以外，靶的纯度为99.995质量％以上。本发明的课题在于提供一种即使在高功率溅射(高速溅射)时也不会产生龟裂或破裂、能够使溅射特性稳定的高品质的溅射用钛靶。

公开(公告)号：CN110129744B

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN201910337427.3

申请日：2012-04-27

申请人： 捷客斯金属株式会社

发明人： 塚本志郎 ,  牧野修仁 ,  福岛笃志 ,  八木和人 ,  日野英治

IPC分类号： C23C14/34 ,  C25C3/28

摘要： 一种溅射用钛靶，其为高纯度钛靶，其特征在于，含有0.5～5质量ppm的S作为添加成分，除了添加成分和气体成分以外，靶的纯度为99.995质量％以上。本发明的课题在于提供一种即使在高功率溅射(高速溅射)时也不会产生龟裂或破裂、能够使溅射特性稳定的高品质的溅射用钛靶。