层体系及其制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1688642A

    公开(公告)日:2005-10-26

    申请号:CN03823614.1

    申请日:2003-09-27

    Abstract: 本发明涉及一种包含(1)基底(S)、(2)抗划层(K)和(3)顶层(D)的层体系,其中抗划层(K)是通过至少部分固化含有基于至少一种硅烷的通过溶胶-凝胶法而制得的缩聚物的涂料组合物而得到,顶层(D)是通过至少部分固化由(a)和(b)的化合物的共同水解而得到的涂料组合物而得到的:(a)通式如下的化合物:M(R′)m(I),其中M为选自Si、Ti、Zr、Sn、Ce、Al、B、VO、In和Zn的一种元素或化合物,R′代表可水解的残基,m为2-4的整数,(b)通式如下的化合物:RbSiR′a,(II),其中残基R′和R相同或不同,R′如上定义,R代表烷基、链烯基、芳基或者具有一个或多个卤素基团的烃基、环氧基、环氧丙氧基、氨基、巯基、甲基丙烯酰氧基或氰基,a和b彼此独立地为1-3的值,a和b的和为4。该层体系的特征在于突出的抗划伤性和抗磨蚀性。

    层体系及其制备方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1320040C

    公开(公告)日:2007-06-06

    申请号:CN03823614.1

    申请日:2003-09-27

    Abstract: 本发明涉及一种包含(1)基底(S)、(2)抗划层(K)和(3)顶层(D)的层体系,其中抗划层(K)是通过至少部分固化含有基于至少一种硅烷的通过溶胶-凝胶法而制得的缩聚物的涂料组合物而得到,顶层(D)是通过至少部分固化由(a)和(b)的化合物的共同水解而得到的涂料组合物而得到的:(a)通式如下的化合物:M(R′)m(I)其中M为选自Si、Ti、Zr、Sn、Ce、Al、B、VO、In和Zn的一种元素或化合物,R′代表可水解的残基,m为2-4的整数,(b)通式如下的化合物:RbSiR′a,(II)其中残基R′和R相同或不同,R′如上定义,R代表烷基、链烯基、芳基或者具有一个或多个卤素基团的烃基、环氧基、环氧丙氧基、氨基、巯基、甲基丙烯酰氧基或氰基,a和b彼此独立地为1-3的值,a和b的和为4。该层体系的特征在于突出的抗划伤性和抗磨蚀性。

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