公开(公告)号：CN1080167C

公开(公告)日：2002-03-06

申请号：CN93115329.8

申请日：1993-11-13

Applicant: 德比尔斯工业钻石部门有限公司

Inventor： J·S·塞斯敦 ,  D·N·莱特

IPC: B24D7/10 ,  B24D7/06 ,  B24D3/28

CPC classification number: B24D7/10

Abstract: 研磨抛光装置有一托板，通常呈可转动的抛光头10形式，和安装于托板之上的研磨抛光垫16。每个抛光垫16包括一研磨体18，它由充满超硬研磨颗粒的垫塑性聚合物制成且有一个研磨表面，在使用中起研磨抛光作用，研磨体18设置了规则排列的孔，通常为窄的毛细管通道，伸至研磨表面。该孔在研磨操作中改善了研磨层的冷却。

公开(公告)号：CN1091073A

公开(公告)日：1994-08-24

申请号：CN93115329.8

申请日：1993-11-13

Applicant: 德比尔斯工业钻石部门有限公司

Inventor： J·S·塞斯敦 ,  D·N·莱特

IPC: B24B37/00

CPC classification number: B24D7/10

Abstract: 研磨抛光装置有一托板，通常呈可转动的抛光头10形式，和安装于托板之上的研磨抛光垫16。每个抛光垫16包括一研磨体18，它由充满超硬研磨颗粒的垫塑性聚合物制成且有一个研磨表面，在使用中起研磨抛光作用，研磨体18设置了规则排列的孔，通常为窄的毛细管通道，伸至研磨表面。该孔在研磨操作中改善了研磨层的冷却。