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发明公开
含有巯基和4-甲基氨基吡啶双官能基团改性硅胶基材料及其在光刻胶树脂制备中的应用审中-实审

公开(公告)号：CN118221123A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202211647458.7

申请日：2022-12-21

Applicant: 彤程化学(中国)有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司

Inventor： 夏治国 , 吴旷奇 , 鲁代仁 , 董栋 , 张宁

IPC: C01B33/157 , C01B33/14 , C08G64/30 , G03F7/004

Abstract: 本发明公开了一种含有巯基和4‑甲基氨基吡啶双官能基团改性硅胶基材料及其制备以及其在一类248nm光刻胶用树脂催化合成、去除酸碱性残留杂质、去除金属离子杂质方面的应用。本发明适用于半导体光刻胶用树脂电子化学品合成及提纯技术领域。提供了一种新型含双官能基团的改性硅胶材料，可以用于半导体、显示电子化学品的催化合成与提纯使用，尤其是适用于一类半导体化学放大型光刻胶用树脂的催化合成和提纯金属离子杂质的方法，具有广泛应用前景。

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