用于对远程目标成像的高光谱成像系统和方法

    公开(公告)号:CN105026901A

    公开(公告)日:2015-11-04

    申请号:CN201380070147.1

    申请日:2013-12-03

    Abstract: 本文中描述了用于提供远程目标(例如,感兴趣的场景104)的一区域的高光谱图像的高光谱成像系统(100c)和方法。在一个方面,高光谱成像系统包括至少一个光学器件(106)、可旋转的鼓(402)(其具有形成在其外表面上的多个狭缝(4049以及位于其中的折叠镜(408))、光谱仪(110)、二维图像传感器(112)和控制器(114)。在另一个方面,高光谱成像系统包括至少一个光学器件、可旋转的盘(其具有形成在其中的至少一个螺旋狭缝)、光谱仪、二维图像传感器和控制器。在又一方面,高光谱成像系统包括至少一个光学器件、可旋转的盘(其具有形成在其中的多个直缝)、光谱仪、二维图像传感器和控制器。

    用于对远程目标成像的高光谱成像系统和方法

    公开(公告)号:CN105026901B

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201380070147.1

    申请日:2013-12-03

    Abstract: 本文中描述了用于提供远程目标(例如,感兴趣的场景104)的一区域的高光谱图像的高光谱成像系统(100c)和方法。在一个方面,高光谱成像系统包括至少一个光学器件(106)、可旋转的鼓(402)(其具有形成在其外表面上的多个狭缝(4049以及位于其中的折叠镜(408))、光谱仪(110)、二维图像传感器(112)和控制器(114)。在另一个方面,高光谱成像系统包括至少一个光学器件、可旋转的盘(其具有形成在其中的至少一个螺旋狭缝)、光谱仪、二维图像传感器和控制器。在又一方面,高光谱成像系统包括至少一个光学器件、可旋转的盘(其具有形成在其中的多个直缝)、光谱仪、二维图像传感器和控制器。

    具有高刚度基材的反射光学元件

    公开(公告)号:CN108780161A

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201780018178.0

    申请日:2017-03-16

    CPC classification number: G02B5/08 G02B1/02 G02B1/04 G02B1/14

    Abstract: 本文描述了用于光学元件的高刚度基材。所述基材包含石墨精整层和非氧化物陶瓷基底基材。非氧化物陶瓷基底基材优选是碳化物,例如碳化硼或碳化硅。石墨精整层可包含具有低精整度的表面。低精整度可通过对石墨表面进行金刚石车削来实现。可利用焊料将石墨精整层接合至非氧化物基底陶瓷。可在石墨精整层上形成补充精整层。可在石墨或补充精整层上形成反射层叠件。本文还描述了用于制造基材的方法。

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