抗反射玻璃基底及其制造方法

    公开(公告)号:CN105917252B

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201580004980.5

    申请日:2015-01-05

    CPC classification number: G02B1/11 C03C15/00 G02B1/12 G02B1/18 G02B2207/107

    Abstract: 提供了一种包括具有距表面预定深度的抗反射层的抗反射玻璃基底,所述抗反射玻璃基底的特征在于:抗反射层具有相继从表面开始的深度方向设置的第一层和第二层的至少两层,第一层和第二层中的每个具有多个气孔,第一层的孔隙率小于第二层的孔隙率。此外,提供了一种制造抗反射玻璃基底的方法,所述方法顺序包括利用第一蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤和利用第二蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤,所述方法的特征在于:第一蚀刻液体的多价金属离子的摩尔浓度大于第二蚀刻液体的多价金属离子的摩尔浓度。提供了一种制造抗反射玻璃基底的方法,所述方法顺序包括利用第一蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤和利用第二蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤,所述方法的特征在于:第一蚀刻液体的氢氧化物和氟化物的摩尔浓度小于第二蚀刻液体的氢氧化物和氟化物的摩尔浓度。

    抗反射玻璃基底及其制造方法

    公开(公告)号:CN105917252A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201580004980.5

    申请日:2015-01-05

    CPC classification number: G02B1/11 C03C15/00 G02B1/12 G02B1/18 G02B2207/107

    Abstract: 提供了一种包括具有距表面预定深度的抗反射层的抗反射玻璃基底,所述抗反射玻璃基底的特征在于:抗反射层具有相继从表面开始的深度方向设置的第一层和第二层的至少两层,第一层和第二层中的每个具有多个气孔,第一层的孔隙率小于第二层的孔隙率。此外,提供了一种制造抗反射玻璃基底的方法,所述方法顺序包括利用第一蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤和利用第二蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤,所述方法的特征在于:第一蚀刻液体的多价金属离子的摩尔浓度大于第二蚀刻液体的多价金属离子的摩尔浓度。提供了一种制造抗反射玻璃基底的方法,所述方法顺序包括利用第一蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤和利用第二蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤,所述方法的特征在于:第一蚀刻液体的氢氧化物和氟化物的摩尔浓度小于第二蚀刻液体的氢氧化物和氟化物的摩尔浓度。

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