具有背部气源的可旋转静电吸盘

    公开(公告)号:CN110050334B

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN201780075409.1

    申请日:2017-12-14

    Abstract: 本文公开了基板支撑底座和结合所述基板支撑底座的静电吸盘的实施方式。在一些实施方式中,基板支撑底座包括:具有上表面和与上表面相对的下表面的主体;一个或多个设置在主体内的吸附电极;自上表面突出以支撑基板的多个基板支撑元件;在主体中心处设置在下表面中并且部分地穿过主体的孔;多个气孔,所述多个气孔设置在靠近主体中心的上表面中,其中所述多个气孔设置在孔的上方并且流体耦接至孔;和多个气体分配槽,所述多个气体分配槽形成在上表面中并且流体耦接至多个气孔。

    用于处理基板的方法及设备

    公开(公告)号:CN110191975A

    公开(公告)日:2019-08-30

    申请号:CN201880007128.7

    申请日:2018-01-03

    Abstract: 本文揭露了用于使基板退火的方法及设备的实施方式。在一些实施方式中,基板支撑件包括:基板支撑底座,所述基板支撑底座具有支撑基板的上表面及相对的底表面,其中所述基板支撑底座由对辐射透明的材料形成;灯组件,所述灯组件设置在所述基板支撑底座下方且具有被配置成加热所述基板的多个灯;底座支撑件,所述底座支撑件延伸穿过所述灯组件以用与所述多个灯间隔开的关系来支撑所述基板支撑底座;轴,所述轴耦接至所述底座支撑件的与第一端相对的第二端;及旋转组件,所述旋转组件与所述底座支撑件相对而耦接至所述轴,以相对于所述灯组件旋转所述轴、所述底座支撑件及所述基板支撑底座。

    具有背部气源的可旋转静电吸盘

    公开(公告)号:CN110050334A

    公开(公告)日:2019-07-23

    申请号:CN201780075409.1

    申请日:2017-12-14

    Abstract: 本文公开了基板支撑底座和结合所述基板支撑底座的静电吸盘的实施方式。在一些实施方式中,基板支撑底座包括:具有上表面和与上表面相对的下表面的主体;一个或多个设置在主体内的吸附电极;自上表面突出以支撑基板的多个基板支撑元件;在主体中心处设置在下表面中并且部分地穿过主体的孔;多个气孔,所述多个气孔设置在靠近主体中心的上表面中,其中所述多个气孔设置在孔的上方并且流体耦接至孔;和多个气体分配槽,所述多个气体分配槽形成在上表面中并且流体耦接至多个气孔。

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