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公开(公告)号：CN108603291A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081594.0
申请日：2016-02-12
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于柔性基板的真空处理系统(100)。真空处理系统(100)包括：第一腔室(110)，适于容纳供应卷(111)以用于提供柔性基板；第二腔室(120)，适于容纳收紧卷(121)以用于在处理之后存储柔性基板(160)；基板运输布置，包括用于将柔性基板从第一腔室(110)引导到第二腔室(120)的一个或多个引导辊(104)；维护区(130)，在第一腔室(110)与第二腔室(120)之间，其中维护区(130)允许通向或属于第一腔室(110)和第二腔室(120)中的至少一个腔室的维护通道；和第一处理腔室(140)，用于处理柔性基板(10)。
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公开(公告)号：CN108603291B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201680081594.0
申请日：2016-02-12
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于柔性基板的真空处理系统(100)。真空处理系统(100)包括：第一腔室(110)，适于容纳供应卷(111)以用于提供柔性基板；第二腔室(120)，适于容纳收紧卷(121)以用于在处理之后存储柔性基板(160)；基板运输布置，包括用于将柔性基板从第一腔室(110)引导到第二腔室(120)的一个或多个引导辊(104)；维护区(130)，在第一腔室(110)与第二腔室(120)之间，其中维护区(130)允许通向或属于第一腔室(110)和第二腔室(120)中的至少一个腔室的维护通道；和第一处理腔室(140)，用于处理柔性基板(10)。
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公开(公告)号：CN108474750A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680078079.7
申请日：2016-01-15
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 根据本公开内容的一个方面，提出一种光学检查系统(100)，用于检查柔性基板(10)。此光学检查系统包括基板支撑件(20)，基板支撑件(20)具有经构造以沿着基板传输路径(T)引导基板的至少部分凸出的基板支撑表面(22)，基板支撑件设置在基板传输路径的第一侧(1)上；光源(30)设置在基板传输路径的第二侧(2)上并经构造以引导光束穿过支撑在凸出的基板支撑表面并与凸出的基板支撑表面接触的基板的一部分；以及光检测器(40)，用以执行基板的透射测量。根据本公开内容的另一方面，提出一种检查柔性基板的方法。
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公开(公告)号：CN114641589A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201980101794.1
申请日：2019-10-28
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述一种用于屏蔽具有真空腔室的沉积设备的沉积源的材料的屏蔽件。所述屏蔽件包括：框架，所述框架被配置成被安装到所述沉积设备上；屏蔽组件，所述屏蔽组件与所述框架耦接，所述屏蔽组件包括：第一侧屏蔽部分、第二侧屏蔽部分、和在所述第一侧屏蔽部分与所述第二侧屏蔽部分之间的中心屏蔽部分，所述屏蔽组件被配置成被布置在所述真空腔室的壁与所述沉积源之间，以在所述屏蔽组件的闭合位置屏蔽沉积材料；所述屏蔽件进一步包括：门布置，所述门布置被配置成移动所述屏蔽组件的至少一部分，以允许在所述屏蔽组件的打开位置接近所述沉积源。
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公开(公告)号：CN202465855U
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201120496500.0
申请日：2011-11-24
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/564 , C23C14/3407 , H01J37/34 , H01J37/3426
Abstract: 本实用新型公开了碱金属和碱土金属的沉积系统，包括金属溅射靶、基板固定器和多个功率源，金属溅射靶包括冷却通道，基板固定器配置成保持基板面对且平行于金属溅射靶，多个功率源配置成将能量施加至在基板和金属溅射靶之间点燃的等离子体。靶可具有盖，盖配置成安装在靶材料上方，盖可包括把手和阀，把手用于自动去除和替换沉积系统内的盖，阀用于提供至靶材料和盖之间的空间的通道，以便泵送、净化或者加压空间内的气体。多个功率源可包括DC源、脉冲DC源、RF源、双RF源、其他多频源等。双RF源可配置成用于反卷积控制等离子体特性，诸如自偏压、等离子体密度以及离子和电子能量。溅射气体可包括惰性气体，惰性气体的原子量小于金属靶的原子量。
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