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公开(公告)号：CN115720646A
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202180046279.5
申请日：2021-06-23
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 代宇瓊 , 马杜尔·萨尚 , 瑞加娜·弗雷德 , 大卫·何荣·黄
IPC: G03F7/36
Abstract: 本文公开的多个实施方式包括用非湿式工艺显影金属侧氧基光刻胶的方法。在一个实施方式中，该方法包括将具有金属侧氧基光刻胶的基板提供到腔室中。在一个实施方式中，金属侧氧基光刻胶包括暴露区域和未暴露区域，并且未暴露区域包括比暴露区域更高的碳浓度。在一个实施方式中，该方法进一步包括使气体流入腔室，其中气体与未曝光区域反应以产生挥发性副产物。
