一种高硬度超耐磨的疏水性自清洁减反膜制备方法

    公开(公告)号:CN109052981B

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN201811017658.8

    申请日:2018-09-01

    Applicant: 常州大学

    Abstract: 本发明属于光学薄膜材料领域,涉及一种水合铝溶胶与有机硅烷共水解制备的均一稳定,含有针状晶须结构的溶胶,即Al‑wisker/SiO2溶胶,和利用上述溶胶制备的高硬度,超耐磨的疏水性减反射减反射膜的方法。利用上述溶胶提拉‑浸渍法在玻璃表面镀制双面减反膜,经200~250℃煅烧后,得到在400‑800nm平均透光率96%以上,接触角125°,减反射膜铅笔硬度5H,在经过酒精棉球机械刮擦1000次循环后,平均透光率下降不超过0.16%,疏水角仍可保持120°以上的疏水状态。

    一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法

    公开(公告)号:CN109502987B

    公开(公告)日:2021-09-28

    申请号:CN201811540898.6

    申请日:2018-12-17

    Applicant: 常州大学

    Abstract: 本发明属于光学薄膜材料领域,特别涉及一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法。该方法以正硅酸四乙酯为原料,聚丙烯酸为模板剂,2‑异丙氧基乙醇和甲醇共同作为溶剂,氨水为催化剂,以模板法制备得到中空SiO2镀膜溶胶,采用提拉‑浸渍法在玻璃基板上镀制双面薄膜。经550℃煅烧后,得到在透光率波长范围为400‑800nm范围内平均透光率在98%以上,硬度达到4H以上减反射薄膜。

    一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法

    公开(公告)号:CN109502987A

    公开(公告)日:2019-03-22

    申请号:CN201811540898.6

    申请日:2018-12-17

    Applicant: 常州大学

    Abstract: 本发明属于光学薄膜材料领域,特别涉及一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法。该方法以正硅酸四乙酯为原料,聚丙烯酸为模板剂,2-异丙氧基乙醇和甲醇共同作为溶剂,氨水为催化剂,以模板法制备得到中空SiO2镀膜溶胶,采用提拉-浸渍法在玻璃基板上镀制双面薄膜。经550℃煅烧后,得到在透光率波长范围为400-800nm范围内平均透光率在98%以上,硬度达到4H以上减反射薄膜。

    一种高硬度超耐磨的疏水性自清洁减反膜制备方法

    公开(公告)号:CN109052981A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201811017658.8

    申请日:2018-09-01

    Applicant: 常州大学

    CPC classification number: C03C17/009 C03C2217/29 C03C2218/11 C03C2218/111

    Abstract: 本发明属于光学薄膜材料领域,涉及一种水合铝溶胶与有机硅烷共水解制备的均一稳定,含有针状晶须结构的溶胶,即Al‑wisker/SiO2溶胶,和利用上述溶胶制备的高硬度,超耐磨的疏水性减反射减反射膜的方法。利用上述溶胶提拉‑浸渍法在玻璃表面镀制双面减反膜,经200~250℃煅烧后,得到在400‑800nm平均透光率96%以上,接触角125°,减反射膜铅笔硬度5H,在经过酒精棉球机械刮擦1000次循环后,平均透光率下降不超过0.16%,疏水角仍可保持120°以上的疏水状态。

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