一种连续致密丝光沸石膜的简易制备方法

    公开(公告)号:CN112675713A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011525433.0

    申请日:2020-12-22

    Applicant: 常州大学

    Abstract: 本发明提供了一种连续致密丝光沸石膜的简易制备方法,主要在于解决载体与晶种层结合力差、晶种层厚导致无法得到均匀完整、高通量膜的问题。首先用四乙氧基硅烷和正丁醇锆水解共聚制得含多羟基的纳米级SiO2‑ZrO2溶胶;将微米级的丝光沸石(MOR)分子筛分散在硅锆溶胶中形成晶种液;最后采用浸渍提拉法在氧化铝载体管上涂覆晶种,干燥焙烧后得到完整连续的晶种管,再二次水热法生长成膜。本发明有效解决了载体与晶种层结合力差而导致缺陷及晶种层过厚导致膜通量减小的问题。

    一种连续致密丝光沸石膜的简易制备方法

    公开(公告)号:CN112675713B

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202011525433.0

    申请日:2020-12-22

    Applicant: 常州大学

    Abstract: 本发明提供了一种连续致密丝光沸石膜的简易制备方法,主要在于解决载体与晶种层结合力差、晶种层厚导致无法得到均匀完整、高通量膜的问题。首先用四乙氧基硅烷和正丁醇锆水解共聚制得含多羟基的纳米级SiO2‑ZrO2溶胶;将微米级的丝光沸石(MOR)分子筛分散在硅锆溶胶中形成晶种液;最后采用浸渍提拉法在氧化铝载体管上涂覆晶种,干燥焙烧后得到完整连续的晶种管,再二次水热法生长成膜。本发明有效解决了载体与晶种层结合力差而导致缺陷及晶种层过厚导致膜通量减小的问题。

    一种MoS2/有机硅共混矩阵膜、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN113856489A

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202111129750.5

    申请日:2021-09-26

    Applicant: 常州大学

    Abstract: 本发明属于共混矩阵膜分离技术领域,具体涉及一种MoS2/有机硅共混矩阵膜、制备方法及应用,该方法包括:由有机烷氧基硅烷通过水解聚合法制备有机硅溶胶;将MoS2分散液与有机硅溶胶混合均匀制备MoS2/有机硅分散液;将MoS2/有机硅分散液擦涂在撑体上,煅烧后得到MoS2/有机硅共混矩阵膜。本发明制备的MoS2/有机硅共混矩阵膜具有良好的H2渗透性和选择性,可应用于分离混合气中的氢气。

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