公开(公告)号：CN105948533B

公开(公告)日：2018-08-14

申请号：CN201610285617.1

申请日：2016-05-03

Applicant: 常州大学

Inventor： 陈若愚 ,  包蕾 ,  王红宁 ,  钟璟 ,  刘小华

IPC: C03C17/34

Abstract: 本发明属于光学薄膜材料领域，特别涉及一种新型高强度宽带减反膜及其制备方法。该方法用溶胶‑凝胶法，提拉法镀制了两层薄膜，下层是SiO2实心球和羟基增强的链状硅溶胶组成的薄膜，上层是SiO2空心球和羟基增强的链状硅溶胶组成的薄膜，利用提拉速度控制两层薄膜的膜厚，经高温煅烧后，得到400‑1200nm平均透光率达到99％，硬度达到5H的双层宽带减反膜。

公开(公告)号：CN105948533A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201610285617.1

申请日：2016-05-03

Applicant: 常州大学

Inventor： 陈若愚 ,  包蕾 ,  王红宁 ,  钟璟 ,  刘小华

IPC: C03C17/34

CPC classification number: C03C17/3417 ,  C03C2217/213

Abstract: 本发明属于光学薄膜材料领域，特别涉及一种新型高强度宽带减反膜及其制备方法。该方法用溶胶‑凝胶法，提拉法镀制了两层薄膜，下层是SiO2实心球和羟基增强的链状硅溶胶组成的薄膜，上层是SiO2空心球和羟基增强的链状硅溶胶组成的薄膜，利用提拉速度控制两层薄膜的膜厚，经高温煅烧后，得到400‑1200nm平均透光率达到99％，硬度达到5H的双层宽带减反膜。