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公开(公告)号：CN100334072C
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200380106779.5
申请日：2003-12-13
Applicant: 巴斯福股份公司
IPC: C07C263/20
CPC classification number: C07C263/10 , C07C263/20 , Y10S203/08 , C07C265/14
Abstract: 本发明涉及一种通过在反应器中使胺与光气在惰性有机溶剂存在下反应并随后加工离开该反应器的反应混合物而制备异氰酸酯的方法。本发明的特征在于在两步或更多步，优选两步蒸馏工艺中相继分离溶剂，并且溶剂在第一设备中在0.1-15巴的压力下分离，并在1-900毫巴的压力下在第二设备或其它设备中分离。来自第一设备的溶剂蒸气的冷凝热用于在第二设备中部分或完全汽化溶剂。
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公开(公告)号：CN1729170A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN200380106779.5
申请日：2003-12-13
Applicant: 巴斯福股份公司
IPC: C07C263/20
CPC classification number: C07C263/10 , C07C263/20 , Y10S203/08 , C07C265/14
Abstract: 本发明涉及一种通过在反应器中使胺与光气在惰性有机溶剂存在下反应并随后加工离开该反应器的反应混合物而制备异氰酸酯的方法。本发明的特征在于在两步或更多步，优选两步蒸馏工艺中相继分离溶剂，并且溶剂在第一设备中在0.1－15巴的压力下分离，并在1－900毫巴的压力下在第二设备或其它设备中分离。来自第一设备的溶剂蒸气的冷凝热用于在第二设备中部分或完全汽化溶剂。
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公开(公告)号：CN1729169A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN200380106804.X
申请日：2003-12-13
Applicant: 巴斯福股份公司
IPC: C07C263/10 , B01D53/70 , C01B7/07
CPC classification number: C01B7/0731 , B01D53/002 , B01D2257/2045 , B01D2257/2064 , C01B7/0712 , C01B32/80 , C07C263/10 , Y02P20/154 , C07C265/14 , C07C265/12 , C07C265/10
Abstract: 本发明涉及一种用于部分或完全分离包含氯化氢和光气、可能的溶剂、低沸物和一般在通过胺与光气反应制备异氰酸酯的过程获得的惰性物的混合物的方法，其中包括首先进行光气的部分或完全冷凝，然后在塔内进行蒸馏或气提步骤以将从底部产物光气中除去氯化氢并随后通过用加工溶剂将光气吸收于该加工溶剂对顶部产物氯化氢进行洗涤。为了除去溶剂残余物，可随后通过在例如活性碳上吸收或通过其它合适方法进行后提纯。
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