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公开(公告)号：CN119431858A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202410655796.8
申请日：2024-05-24
Applicant: 尾池工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种显示优异的气体阻隔性的气体阻隔膜。该气体阻隔膜依次具备基材、硬涂层以及无机氧化物层，无机氧化物层包含硅氧化物，通过纳米压痕法从无机氧化物层的表面测量的压入硬度H与硬涂层的表面粗糙度Ra之比(H/Ra)为0.7以上。
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