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公开(公告)号:CN101261396B
公开(公告)日:2010-07-21
申请号:CN200810095582.0
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1343
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器,提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器。采用这样的结构,该结构包括:彼此相对设置的一对基板;密封于该对基板之间的液晶层;以及像素区域,包括反射区域和透射区域,该反射区域具有反射体,该反射体用于反射从该对基板的一个基板的侧面入射的光,该反射体设置于该对基板的另一基板上,该透射区域用于向着该对基板的所述一个基板透射从该对基板的另一基板的侧面入射的光,其中该反射体设置于该像素区域的外围;以及其中该透射区域具有透明像素电极,该透明像素电极设置于该反射体的开口处,并且形成于该反射体上方并与该反射体电性隔离。
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公开(公告)号:CN101261415A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200810095580.1
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1362 , H01L27/12 , H01L21/84 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器制造方法,并提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器制造方法。该方法包括如下步骤:在形成薄膜晶体管的栅极同时,在该对基板的另一基板上形成用于形成不规则变化的该图案的导体层;在该导体层上形成半导体层;在该半导体层上形成介电层;通过利用用于形成不规则变化的该图案的导体层作为掩模,进行背部曝光,将该介电层图案化;形成具有该导体层和该介电层的用于形成不规则变化的图案;以及在用于形成不规则变化的该图案上形成该反射体。
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公开(公告)号:CN101261395A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200810095581.6
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器,并提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器。采用这样的结构,该结构包括:彼此相对设置的一对基板;密封于该对基板之间的垂直对齐型液晶层;像素区域,透射从该对基板的一个基板的侧面进入的光;以及用于反射光的具有视差校正功能的反射部分,该光已从该对基板的所述一个基板的侧面进入该像素区域,并且已被该区域透射,由此使得该光从该对基板的另一基板的侧面再次进入该像素区域。
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公开(公告)号:CN101261394B
公开(公告)日:2010-06-02
申请号:CN200810095577.X
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器,并提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器。采用这样的结构,该结构包括:彼此相对设置的一对基板;密封于该对基板之间的垂直对齐型液晶层;像素区域,具有反射区域和透射区域,该反射区域具有反射体,该反射体用于反射从该对基板的一个基板的侧面入射的光,该透射区域用于向着该对基板的所述一个基板透射从该对基板的另一基板的侧面入射的光;以及对齐控制结构,形成于该反射体上,并且具有光分散能力。
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公开(公告)号:CN101308305A
公开(公告)日:2008-11-19
申请号:CN200810125497.4
申请日:2005-02-28
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1362
CPC classification number: G02F1/136213 , G02F2001/134354 , G02F2001/136218
Abstract: 本发明提供一种液晶显示器及其防止影像残留的方法。其中,该液晶显示器包括:第一和第二基板,彼此相对设置;液晶,密封在该第一和第二基板之间;栅极总线和数据总线,形成在该第一基板上;薄膜晶体管,连接至该栅极总线和该数据总线;多个子像素电极,形成在由该栅极总线和该数据总线所限定的像素区域中;控制电极,电容性耦接至该多个子像素电极中的至少一个,并且通过该薄膜晶体管从该数据总线施加显示电压到该控制电极;以及公共电极,形成在该第二基板上,并且与该第一基板上的该多个子像素电极相对,其中,该电容性耦接至该控制电极的子像素电极,通过电阻连接至与该薄膜晶体管连接的子像素电极。本发明可以防止影像残留。
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公开(公告)号:CN101261396A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200810095582.0
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1343
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器,提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器。采用这样的结构,该结构包括:彼此相对设置的一对基板;密封于该对基板之间的液晶层;以及像素区域,包括反射区域和透射区域,该反射区域具有反射体,该反射体用于反射从该对基板的一个基板的侧面入射的光,该反射体设置于该对基板的另一基板上,该透射区域用于向着该对基板的所述一个基板透射从该对基板的另一基板的侧面入射的光,其中该反射体设置于该像素区域的外围;以及其中该透射区域具有透明像素电极,该透明像素电极设置于该反射体的开口处,并且形成于该反射体上方并与该反射体电性隔离。
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公开(公告)号:CN101261382A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200810095583.5
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器制造方法,并提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器制造方法。该方法包括如下步骤:在基板上形成具有高反射率的金属层和在该基板上形成具有低反射率的金属层;将具有高反射率的该金属层和具有该低反射率的该金属层图案化,以形成薄膜晶体管的源极和漏极以及该反射区域中设置的反射体;在该源极和该漏极以及该反射体上形成绝缘膜;以及将该绝缘膜图案化,并且同时去除该反射体上具有低反射率的金属层,以露出具有高反射率的金属层,由此形成具有高的光反射率的反射表面。
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公开(公告)号:CN100395640C
公开(公告)日:2008-06-18
申请号:CN200410085093.9
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/136 , G02F1/1335 , G02F1/133 , H01L29/786 , H01L21/00
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器及其制造方法,并提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器。采用这样的结构,该结构包括:液晶显示器面板,具有一对基板和密封于该对基板之间的液晶层;像素区域,包括反射区域和透射区域,该反射区域具有反射体,用于反射从该对基板的一基板侧面入射的光,该透射区域用于向着该对基板的该基板透射从该对基板的另一基板侧面入射的光;背光单元,具有用于反射光的反射体和导光板,该光已从该对基板的该基板侧面进入该透射区域,并且已被该区域透射,以使得该光从该对基板的另一基板侧面再次进入该透射区域;以及仅形成于该像素区域的透射区域中的滤色层。
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公开(公告)号:CN101261415B
公开(公告)日:2010-06-02
申请号:CN200810095580.1
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1362 , H01L27/12 , H01L21/84 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器制造方法,并提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器制造方法。该方法包括如下步骤:在形成薄膜晶体管的栅极同时,在该对基板的另一基板上形成用于形成不规则变化的该图案的导体层;在该导体层上形成绝缘膜;在该绝缘膜上形成半导体层;在该半导体层上形成介电层;通过利用用于形成不规则变化的该图案的导体层作为掩模,进行背部曝光,将该介电层图案化;形成具有该导体层和该介电层的用于形成不规则变化的图案;以及在用于形成不规则变化的该图案上形成该反射体。
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公开(公告)号:CN100592162C
公开(公告)日:2010-02-24
申请号:CN200810095583.5
申请日:2004-10-12
Applicant: 富士通株式会社 , 友达光电股份有限公司
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133514 , G02F1/133707
Abstract: 本发明涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器制造方法,并提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器制造方法。该方法包括如下步骤:在基板上形成具有高反射率的金属层和在该具有高反射率的金属层上形成具有低反射率的金属层;将具有高反射率的该金属层和具有该低反射率的该金属层图案化,以形成薄膜晶体管的源极和漏极以及该反射区域中设置的反射体;在该源极和该漏极以及该反射体上形成绝缘膜;以及将该绝缘膜图案化,并且同时去除该反射体上具有低反射率的金属层,以露出具有高反射率的金属层,由此形成具有高的光反射率的反射表面。
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