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公开(公告)号：CN1278094A
公开(公告)日：2000-12-27
申请号：CN00108206.X
申请日：2000-04-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G11B7/007 , G11B11/105
CPC classification number: G11B7/24085 , G11B7/005 , G11B7/00718 , G11B7/00745 , G11B11/10565
Abstract: 一种光学记录介质,提供有沿预定方向交替设置了脊和槽的基片,设在脊和槽上的数据记录区,以及记录有数据块识别标记的识别标记记录区。所述识别标记记录区仅设在所述脊和槽之一上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1146874C
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN00108206.X
申请日：2000-04-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G11B7/007 , G11B11/105
CPC classification number: G11B7/24085 , G11B7/005 , G11B7/00718 , G11B7/00745 , G11B11/10565
Abstract: 一种光学记录介质，提供有沿预定方向交替设置了脊和槽的基片，设在脊和槽上的数据记录区，以及记录有数据块识别标记的识别标记记录区。所述识别标记记录区仅设在所述脊和槽之一上。
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公开(公告)号：CN1268741A
公开(公告)日：2000-10-04
申请号：CN99123531.2
申请日：1999-11-10
Applicant: 富士通株式会社
Inventor： 西本英树
CPC classification number: G11B7/1365 , G11B7/005 , G11B11/10515 , G11B11/10543
Abstract: 一用于将入射光束射在具有由作为轨迹的纹间表面与沟纹组成的记录表面的记录介质上并对从其反射的光束得到的再现信号进行检测的光学信息存储装置。它包括设置在反射光束光路中的相位平板,可在第一与第二位置之间倾斜,且在第一位置该相位平板向反射光束提供为检测来自纹间表面信号所需的第一相位补偿量,及在第二位置该相位平板向反射光束提供为检测来自沟纹信号所需的第二相位补偿量;以及用于倾斜该相位平板的驱动机构。
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公开(公告)号：CN100498937C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200410003276.1
申请日：2000-04-28
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G11B7/24085 , G11B7/005 , G11B7/00718 , G11B7/00745 , G11B11/10565
Abstract: 一种光学记录介质，提供有沿予定方向交替设置了脊和槽的基片，设在脊和槽上的数据记录区，以及记录有数据块识别标记的识别标记记录区。所述识别标记记录区仅设在所述脊和槽之一上。
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公开(公告)号：CN1555049A
公开(公告)日：2004-12-15
申请号：CN200410003276.1
申请日：2000-04-28
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G11B7/24085 , G11B7/005 , G11B7/00718 , G11B7/00745 , G11B11/10565
Abstract: 一种光学记录介质，提供有沿予定方向交替设置了脊和槽的基片，设在脊和槽上的数据记录区，以及记录有数据块识别标记的识别标记记录区。所述识别标记记录区仅设在所述脊和槽之一上。
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公开(公告)号：CN1173346C
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN99123531.2
申请日：1999-11-10
Applicant: 富士通株式会社
Inventor： 西本英树
CPC classification number: G11B7/1365 , G11B7/005 , G11B11/10515 , G11B11/10543
Abstract: 一用于将入射光束射在具有由作为轨迹的纹间表面与沟纹组成的记录表面的记录介质上并对从其反射的光束得到的再现信号进行检测的光学信息存储装置。它包括设置在反射光束光路中的相位片，可在第一与第二位置之间倾斜，且在第一位置该相位片向反射光束提供为检测来自纹间表面信号所需的第一相位补偿量，及在第二位置该相位片向反射光束提供为检测来自沟纹信号所需的第二相位补偿量；以及用于倾斜该相位片的驱动机构。
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