阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件

    公开(公告)号:CN101244641B

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN200810009965.1

    申请日:2008-02-15

    Inventor: 阿形祐也

    Abstract: 本发明涉及阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件。本发明的目的在于提供水蒸气透过率低于0.01g/m2/天且粘附性良好的有机无机层叠型的阻隔性层叠体和阻隔性膜基板,以及提供使用了上述阻隔性层叠体或阻隔性膜基板的耐久性高的器件。在本发明中,作为有机无机层叠型的阻隔性层叠体的有机层,采用包含具有由下式表示的结构单元的聚合物的层。由此,水蒸气透过率降低,粘附性变良好。在下式中R1及R2表示氢原子或甲基,L表示碳原子数为8以上且不含有氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。

    阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件

    公开(公告)号:CN101244641A

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200810009965.1

    申请日:2008-02-15

    Inventor: 阿形祐也

    Abstract: 本发明涉及阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件。本发明的目的在于提供水蒸气透过率低于0.01g/m2/天且粘附性良好的有机无机层叠型的阻隔性层叠体和阻隔性膜基板,以及提供使用了上述阻隔性层叠体或阻隔性膜基板的耐久性高的器件。在本发明中,作为有机无机层叠型的阻隔性层叠体的有机层,采用包含具有由上式表示的结构单元的聚合物的层。由此,水蒸气透过率降低,粘附性变良好。在下式中R1及R2表示氢原子或甲基,L表示碳原子数为8以上且不含有氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。

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