公开(公告)号：CN1264900C

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN03106018.8

申请日：2003-02-20

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 川西直之 ,  藤原一彦 ,  并河均 ,  本隆裕 ,  田村裕

IPC: C08J7/12 ,  C08J5/18 ,  C08L1/08

CPC classification number: C08B3/24

Abstract: 本发明公开了一种聚合物薄膜的碱皂化方法，该方法包括以下步骤：将一种碱溶液涂布到温度不低于室温的聚合物薄膜上，然后从薄膜上洗掉该碱溶液。

公开(公告)号：CN1297842C

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN01124805.X

申请日：2001-05-11

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 石塚诚治 ,  浦宗广 ,  杉山正 ,  中贤二 ,  藤原一彦 ,  川西直之

IPC: G02F1/1335 ,  B32B27/28

CPC classification number: B05D3/0413 ,  B05D7/04 ,  G02B5/3016 ,  G02B5/3083 ,  G02F1/13363 ,  G02F2001/133633

Abstract: 一种光学补偿片产生装置，产生具有液晶层的光学补偿片。在该装置中，摩擦单元被提供给具有包含树脂的第一层的树脂膜，将这个第一层经受摩擦处理，从而形成定向层。一种除尘器通过使用不会溶解定向层的如全氟化碳的液体从定向层上清除尘粒。液晶层涂布机位于除尘器的下游，用于用包含液晶化合物的涂布液涂布定向层，从而形成液晶层；

公开(公告)号：CN1439667A

公开(公告)日：2003-09-03

申请号：CN03106018.8

申请日：2003-02-20

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 川西直之 ,  藤原一彦 ,  并河均 ,  本隆裕 ,  田村裕

IPC: C08J7/12 ,  C08J5/18 ,  C08L1/08

CPC classification number: C08B3/24

Abstract: 公开了一种聚合物薄膜的碱皂化方法，该方法包括以下步骤：将一种碱溶液涂布到温度不低于室温的聚合物薄膜上，然后从薄膜上洗掉该碱溶液。

公开(公告)号：CN1334481A

公开(公告)日：2002-02-06

申请号：CN01124805.X

申请日：2001-05-11

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 石塚诚治 ,  浦宗广 ,  杉山正 ,  中嶌贤二 ,  藤原一彦 ,  川西直之

IPC: G02F1/1335 ,  B32B27/28 ,  B32B31/12

CPC classification number: B05D3/0413 ,  B05D7/04 ,  G02B5/3016 ,  G02B5/3083 ,  G02F1/13363 ,  G02F2001/133633

Abstract: 一种光学补偿片产生装置,产生具有液晶层的光学补偿片。在该装置中,摩擦单元被提供给具有包含树脂的第一层的树脂膜,将这个第一层经受摩擦处理,从而形成定向层。一种除尘器通过使用不会溶解定向层的如全氟化碳的液体从定向层上清除尘粒。液晶层涂布机位于除尘器的下游,用于用包含液晶化合物的涂布液涂布定向层,从而形成液晶层。