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公开(公告)号：CN109964155B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201780068835.2
申请日：2017-11-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/20 , F21S2/00 , F21V9/00 , G02F1/13357 , F21Y115/10
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够抑制荧光体的劣化、能够抑制由基材膜的缺损引起的亮点的产生及亮度的降低的含荧光体膜及背光单元。本发明通过如下含荧光体膜来解决课题，该含荧光体膜具有：含荧光体层，具备具有氧不透过性且形成有分散的凹部的树脂层及配置于凹部的荧光区域；及第1基材膜和第2基材膜，该第1基材膜层叠于含荧光体层的其中一个面上，该第2基材膜层叠于相反面上，荧光区域包含暴露在氧中便会与氧反应而劣化的荧光体和粘合剂，第1基材膜包含支撑膜和设置在与含荧光体层对置的面侧的无机层，就树脂层而言，弹性模量为0.5～10GPa、凹部的底部的厚度为0.1～20μm。
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公开(公告)号：CN109661598A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201780053700.9
申请日：2017-08-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/13357 , H01L33/50
Abstract: 本发明提供一种即使在含有量子点等荧光体的薄膜中形成层叠结构之后剪裁成所期望的尺寸的情况下也能够抑制荧光体的劣化的含荧光体薄膜、以及具备该含荧光体薄膜作为波长转换部件的背光单元。本发明的含荧光体薄膜具有：含荧光体层，其离散配置有多个包含暴露于氧时与氧反应而劣化的荧光体的荧光区域，并在离散配置的多个荧光区域之间配置有对氧具有不透过性的树脂层；及第1基材薄膜及第2基材薄膜，分别层叠在含荧光体层的两个主表面上；树脂层的努氏硬度为115N/mm2～285N/mm2，蠕变恢复率为22％以下，弹性恢复率为60％以上。
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公开(公告)号：CN109661598B
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN201780053700.9
申请日：2017-08-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/13357 , H01L33/50
Abstract: 本发明提供一种即使在含有量子点等荧光体的薄膜中形成层叠结构之后剪裁成所期望的尺寸的情况下也能够抑制荧光体的劣化的含荧光体薄膜、以及具备该含荧光体薄膜作为波长转换部件的背光单元。本发明的含荧光体薄膜具有：含荧光体层，其离散配置有多个包含暴露于氧时与氧反应而劣化的荧光体的荧光区域，并在离散配置的多个荧光区域之间配置有对氧具有不透过性的树脂层；及第1基材薄膜及第2基材薄膜，分别层叠在含荧光体层的两个主表面上；树脂层的努氏硬度为115N/mm2～285N/mm2，蠕变恢复率为22％以下，弹性恢复率为60％以上。
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公开(公告)号：CN109964155A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201780068835.2
申请日：2017-11-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/20 , F21S2/00 , F21V9/00 , G02F1/13357 , F21Y115/10
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够抑制荧光体的劣化、能够抑制由基材膜的缺损引起的亮点的产生及亮度的降低的含荧光体膜及背光单元。本发明通过如下含荧光体膜来解决课题，该含荧光体膜具有：含荧光体层，具备具有氧不透过性且形成有分散的凹部的树脂层及配置于凹部的荧光区域；及第1基材膜和第2基材膜，该第1基材膜层叠于含荧光体层的其中一个面上，该第2基材膜层叠于相反面上，荧光区域包含暴露在氧中便会与氧反应而劣化的荧光体和粘合剂，第1基材膜包含支撑膜和设置在与含荧光体层对置的面侧的无机层，就树脂层而言，弹性模量为0.5～10GPa、凹部的底部的厚度为0.1～20μm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104071620A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201410119274.2
申请日：2014-03-27
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 柿下健一
IPC: B65H27/00
Abstract: 提供一种能够抑制料片的滑行、擦伤、挤压褶皱、表面转印的功能性薄膜的制造方法以及料片输送装置。功能性薄膜的制造方法具备如下工序：连续地供给具有第1面和第2面的料片；使料片的第1面侧与具有第1轴的第1辊接触来使料片经过，所述第1辊通过与料片的第1面侧之间的第1摩擦力来进行从动旋转；以及使料片的第2面侧与配置于料片的第2面侧的第2辊接触来使料片经过，该第2辊被传递来自第1辊的旋转力，且该第2辊与料片的第2面侧之间的第2摩擦力小于第1摩擦力，该第2辊具有第2轴。
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公开(公告)号：CN109661610B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201780053842.5
申请日：2017-08-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02F1/13357 , H01L33/50 , F21V9/32 , F21Y115/10
Abstract: 本发明提供一种能够抑制荧光体的劣化并且能够抑制由于树脂层的缺损引起的亮点的产生及亮度的降低的含荧光体薄膜。本发明的含荧光体薄膜具有：含荧光体层，其具有树脂层及多个荧光区域，所述树脂层对氧具有不透过性且形成有离散配置的多个凹部，所述多个荧光区域配置在树脂层的凹部中、且包含暴露于氧中时会与氧反应而劣化的荧光体；及第1基材薄膜及第2基材薄膜，层叠于含荧光体层的一个主表面及另一个主表面；荧光区域包含作为荧光体的量子点及粘合剂，所述树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的凹部的深度h为1μm以上且100μm以下，相邻的荧光区域之间的宽度t为5μm以上且300μm以下，相邻的荧光区域之间的宽度t与深度h的纵横比h/t为3.0以下。
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公开(公告)号：CN109661610A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201780053842.5
申请日：2017-08-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02F1/13357 , H01L33/50 , F21V9/32 , F21Y115/10
Abstract: 本发明提供一种能够抑制荧光体的劣化并且能够抑制由于树脂层的缺损引起的亮点的产生及亮度的降低的含荧光体薄膜。本发明的含荧光体薄膜具有：含荧光体层，其具有树脂层及多个荧光区域，所述树脂层对氧具有不透过性且形成有离散配置的多个凹部，所述多个荧光区域配置在树脂层的凹部中、且包含暴露于氧中时会与氧反应而劣化的荧光体；及第1基材薄膜及第2基材薄膜，层叠于含荧光体层的一个主表面及另一个主表面；荧光区域包含作为荧光体的量子点及粘合剂，所述树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的凹部的深度h为1μm以上且100μm以下，相邻的荧光区域之间的宽度t为5μm以上且300μm以下，相邻的荧光区域之间的宽度t与深度h的纵横比h/t为3.0以下。
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公开(公告)号：CN104071620B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201410119274.2
申请日：2014-03-27
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 柿下健一
IPC: B65H27/00
Abstract: 提供一种能够抑制料片的滑行、擦伤、挤压褶皱、表面转印的功能性薄膜的制造方法以及料片输送装置。功能性薄膜的制造方法具备如下工序：连续地供给具有第1面和第2面的料片；使料片的第1面侧与具有第1轴的第1辊接触来使料片经过，所述第1辊通过与料片的第1面侧之间的第1摩擦力来进行从动旋转；以及使料片的第2面侧与配置于料片的第2面侧的第2辊接触来使料片经过，该第2辊被传递来自第1辊的旋转力，且该第2辊与料片的第2面侧之间的第2摩擦力小于第1摩擦力，该第2辊具有第2轴。
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