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发明公开
研磨垫审中-实审

公开(公告)号：CN116323100A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180064768.3

申请日：2021-09-29

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 川村佳秀 , 立野哲平 , 松冈立马 , 栗原浩 , 鸣岛早月 , 高见沢大和 , 越智惠介 , 川崎哲明

IPC: B24B37/24

Abstract: 本发明的目的在于，提供无需变更研磨层的物性、气泡结构就能够实现端部塌边的改善和/或台阶消除性能的提高的研磨垫。一种研磨垫，其具备：研磨层，该研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面；以及缓冲层，该缓冲层配置于所述研磨层的与研磨面相反一侧，关于通过以弯曲模式利用于25℃的频散进行的动态粘弹性试验得到的、研磨垫整体的储能弹性模量E’和损耗弹性模量E”之比(tanδ)，以100～1000rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax100‑1000)相对于以1～10rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax1‑10)的比值为0.75～1.30。

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