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公开(公告)号：CN1605944A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410074133.X
申请日：2004-08-31
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
CPC classification number: G03G5/056
Abstract: 本发明的目的是提供一种电子照相光电导体和方法，其甚至在光电导体鼓和外围设备的回收过程中，或在液相显影法中也几乎不产生裂纹，并由此制得极好的图像。本发明所述的电子照相光电导体包括导电底材与含有电荷生成材料和电荷迁移材料的光敏层。光敏层含有由结构式(I)所示的结构单元所组成的多芳基化合物树脂的树脂粘合剂：其中，R1和R2表示氢原子、烷基、环烷基、或芳基；并且R1、R2和一个连接到R1和R2的碳原子可以形成一个环状结构，所述环状结构可能与一个或两个亚芳基相连；R3到R10各自为氢原子、烷基、氟原子、氯原子，或溴原子；m和n符合不等式0.5＜m/(m+n)＜0.7。
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公开(公告)号：CN1645260A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN200510001796.3
申请日：2005-01-19
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
CPC classification number: G03G5/0546 , G03G5/0542 , G03G5/0696
Abstract: 本发明提供了不受使用环境的温度和湿度变动影响，电气特性的稳定性提高，不产生记忆等图像障碍的电子照相感光体及其制造方法。在导电性基体上具有感光层的电子照相感光体中，使用氯乙烯类树脂，该氯乙烯类树脂具有对作为取代基具有羟基、环氧基和强酸根的氯乙烯系聚合物用酸进行酯化处理，所述环氧基和所述羟基成为酯基的部分的结构。
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公开(公告)号：CN1383036A
公开(公告)日：2002-12-04
申请号：CN02107674.X
申请日：2002-03-29
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
IPC: G03G5/05
CPC classification number: G03G5/0517 , G03G5/04 , Y10S430/103
Abstract: 本发明的目的是提供一种电子照相的光电导体,其通过包含一种在光电导体中从未用过的化合物添加剂而具有剩余电势和重复电势的优良特性。本发明的另一个目的是提供一种制造这种光电导体的方法。本发明的电子照相的光电导体包含导电基材和在该基材上的光敏层,其中所述光敏层包含磷酸三(4－硝基苯酯)。
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公开(公告)号：CN1327177A
公开(公告)日：2001-12-19
申请号：CN01121138.5
申请日：2001-05-31
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
IPC: G03G5/04
CPC classification number: G03G5/0696
Abstract: 公开了一种电子照相光电导体,它包括导电基片和光敏层,所述光敏层包括第一酞菁化合物电荷产生物质主要组分和第二酞菁化合物电荷产生物质次要组分,所述第二酞菁化合物的负电荷产生性高于第一酞菁化合物的负电荷产生性。还公开了其制造方法
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公开(公告)号：CN1298123A
公开(公告)日：2001-06-06
申请号：CN00128352.9
申请日：2000-11-24
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
IPC: G03G5/04
CPC classification number: G03G5/0696
Abstract: 公开一种电子照相感光体,它包括导电基片和在该导电基片上至少含有酞菁化合物作为光敏材料的光敏层,其中,按1摩尔所述酞菁化合物计,所述光敏层包括100nmol—200mmol带邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁化合物。该感光体具有优良的电位保持率。还提供该感光体的制造方法,包括用涂料液涂覆形成光敏层的步骤,从而使得到的光敏层具有高的电位保持率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1286416A
公开(公告)日：2001-03-07
申请号：CN00126207.6
申请日：2000-08-25
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
IPC: G03G5/06
CPC classification number: G03G5/0631 , G03G5/0646 , G03G5/0679
Abstract: 一种电子照相光电导体及其制造方法,所述光电导体包括导电基材和在该导电基材上的光敏膜;所述光敏膜含有式(1)所示的双偶氮电荷产生剂以及,按1摩尔所述双偶氮电荷产生剂计,100nmol—40mmol,较好为500nmol－20mmol的式(2)化合物。该光电导体既不会产生肉眼可见的缺陷,也不会产生图象不均匀。
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公开(公告)号：CN1450414A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN03110407.X
申请日：2003-04-11
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
IPC: G03G5/04
CPC classification number: G03G5/0696 , C09B67/0035
Abstract: 本发明的目的是提供一种电子照相光电导体，它表现出良好的电子照相性能，尤其是高敏感性。本发明的另一个目的是提供一种制备该电子照相光电导体的方法，它包括用涂敷液形成表现出高敏感性的光敏层的步骤。本发明的电子照相光电导体包含含有光电物质的光敏层，其主要组分是金属酞菁化合物，其次要组分是具有中心元素氢的酞菁化合物。次要组分的含量为1μmol－200mmol，以1mol主要组分为基准。本发明的制造方法采用含有光电物质的涂敷液，所述光电物质包含金属酞菁化合物主要组分和含量为1μmol－200mmol的具有中心元素氢的酞菁化合物次要组分，以1mol主要组分为基准。
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公开(公告)号：CN1341873A
公开(公告)日：2002-03-27
申请号：CN01125246.4
申请日：2001-08-31
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
IPC: G03G5/06
CPC classification number: G03G5/0517 , G03G5/0603 , G03G5/0605 , G03G5/0609 , G03G5/0614 , G03G5/0616 , G03G5/0629
Abstract: 公开了一种具有足够抗臭氧性并呈现改进的电气特性稳定性的电子照相光电导体及其制备方法。所述光电导体包括导电基材和在该导电基材上的光敏层,所述光敏层包含式(I)化合物。式(I)中R1－R4各自代表氢原子、卤原子、具有1－4个碳原子的烷基、烷氧基、卤代烷基、卤代烷氧基或任选取代的芳基,R5代表任选取代的烷基或任选取代的芳基。
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公开(公告)号：CN1178107C
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN00126207.6
申请日：2000-08-25
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
IPC: G03G5/06
CPC classification number: G03G5/0631 , G03G5/0646 , G03G5/0679
Abstract: 一种电子照相光电导体及其制造方法，所述光电导体包括导电基材和在该导电基材上的光敏膜；所述光敏膜含有式(1)所示的双偶氮电荷产生剂以及，按1摩尔所述双偶氮电荷产生剂计，100nmol-40mmol，较好为500nmol-20mmol的式(2)化合物。该光电导体既不会产生肉眼可见的缺陷，也不会产生图象不均匀。
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公开(公告)号：CN1296198A
公开(公告)日：2001-05-23
申请号：CN00130637.5
申请日：2000-10-06
Applicant: 富士电机影像器材有限公司
CPC classification number: G03G5/06 , G03G5/0612 , G03G5/0618 , G03G5/0629 , G03G5/0646 , G03G5/0696
Abstract: 提供一种具有高表面电荷保留率的电子照相光敏材料、含该光敏材料的电子照相光电导体和这种光敏材料及光电导体的制造方法,其特征在于向具有电荷产生功能的光敏材料中加入苯邻二甲酰亚胺盐化合物。
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