公开(公告)号：CN1971436A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200610153851.5

申请日：2006-09-13

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 小林政宪 ,  山本光雄 ,  石井康友

IPC: G03G15/02 ,  G03G21/00

CPC classification number: G03G15/0225

Abstract: 本发明提供一种成像装置。该成像装置包括待清洁部件和清洁件，该清洁件由具有多个泡沫孔的泡沫材料形成，该清洁件通过接触所述待清洁部件并摩擦所述待清洁部件而清洁所述待清洁部件。在所述清洁件表面中的多个泡沫孔的任一个中，沿摩擦方向的最大长度A和沿垂直于所述摩擦方向的方向的最大长度B满足A＜B的关系。

公开(公告)号：CN100565369C

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200610153851.5

申请日：2006-09-13

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 小林政宪 ,  山本光雄 ,  石井康友

IPC: G03G15/02 ,  G03G21/00

CPC classification number: G03G15/0225

Abstract: 本发明提供一种成像装置。该成像装置包括待清洁部件和清洁件，该清洁件由具有多个泡沫孔的泡沫材料形成，该清洁件通过接触所述待清洁部件并摩擦所述待清洁部件而清洁所述待清洁部件。在所述清洁件表面中的多个泡沫孔的任一个中，沿摩擦方向的最大长度A和沿垂直于所述摩擦方向的方向的最大长度B满足A＜B的关系。