-
公开(公告)号：CN1983404A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200610144450.3
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11C13/04 , G03H1/04 , G03H1/16
CPC classification number: G03H1/16 , G03H1/02 , G03H2001/0204 , G11B7/0065 , G11C13/042
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和全息图记录装置。本发明提出了一种全息图记录方法，该全息图记录方法包括以下步骤：通过将周期性强度分布或相位分布叠加在将二进制数字数据表示为亮/暗图像的光的强度分布上，来产生信号光；对所述信号光进行傅立叶变换；将经傅立叶变换的信号光和参考光同时照射在光记录介质上；以及将所述信号光记录为全息图。
-
公开(公告)号：CN1275845C
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN02107444.5
申请日：2002-03-15
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B82Y10/00 , H01J1/304 , H01J9/025 , H01J2201/30469
Abstract: 空心石墨片结构具有以连续形状设置的至少一对空心石墨片材料，其中该对空心石墨片材料的相邻端以一个间隙彼此相对。
-
公开(公告)号：CN101025942B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200610144449.0
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11C13/04 , G03H1/04
CPC classification number: G11B7/0065 , G11B7/128 , G11B7/2403 , G11B7/24044 , Y10S359/90
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和装置、全息图重现方法及光学记录介质。将信号光记录到光学记录介质上作为全息图的全息图记录方法包括以下步骤：通过在对入射相干光进行空间调制的空间光调制器上显示将调制区域分为多个区域的图案，而关于所述相干光的光轴对称地设置产生信号光的信号光区域和产生参考光的参考光区域；通过利用所述空间光调制器对所述入射相干光进行调制，来产生信号光和参考光；将从彼此对称布置的所述信号光区域和所述参考光区域产生的所述信号光和所述参考光同时且同轴地照射到反射型光学记录介质上；以及将所述信号光记录在所述光学记录介质上作为全息图。
-
公开(公告)号：CN101281760A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200710095844.9
申请日：2007-04-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/02 , G03H1/26 , G03H2001/0264 , G03H2001/267 , G03H2240/26 , G03H2250/38 , G03H2250/43 , G03H2260/31 , G11B7/0065 , G11B7/24044 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/25 , G11B7/251 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2533 , G11B7/2542 , G11B7/259 , G11B7/2595 , G11B2007/25417
Abstract: 本发明提供了一种全息记录材料、全息记录介质和全息记录方法。所述全息记录材料用于至少通过光照射来记录信息。所述全息记录材料包含光响应性分子、液晶分子和平均粒径为所述信息的记录中使用的光的波长的十分之一以下的颗粒。
-
公开(公告)号：CN102750959B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201210217048.9
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/16 , G03H1/02 , G03H2001/0204 , G11B7/0065 , G11C13/042
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和全息图记录装置。本发明提出了一种全息图记录方法，该全息图记录方法包括以下步骤：通过将周期性强度分布或相位分布叠加在将二进制数字数据表示为亮/暗图像的光的强度分布上，来产生信号光；对所述信号光进行傅立叶变换；将经傅立叶变换的信号光和参考光同时照射在光记录介质上；以及将所述信号光记录为全息图。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101281760B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200710095844.9
申请日：2007-04-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/02 , G03H1/26 , G03H2001/0264 , G03H2001/267 , G03H2240/26 , G03H2250/38 , G03H2250/43 , G03H2260/31 , G11B7/0065 , G11B7/24044 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/25 , G11B7/251 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2533 , G11B7/2542 , G11B7/259 , G11B7/2595 , G11B2007/25417
Abstract: 本发明提供了一种全息记录材料、全息记录介质和全息记录方法。所述全息记录材料用于至少通过光照射来记录信息。所述全息记录材料包含光响应性分子、液晶分子和平均粒径为所述信息的记录中使用的光的波长的十分之一以下的颗粒。
-
公开(公告)号：CN102750959A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210217048.9
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/16 , G03H1/02 , G03H2001/0204 , G11B7/0065 , G11C13/042
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和全息图记录装置。本发明提出了一种全息图记录方法，该全息图记录方法包括以下步骤：通过将周期性强度分布或相位分布叠加在将二进制数字数据表示为亮/暗图像的光的强度分布上，来产生信号光；对所述信号光进行傅立叶变换；将经傅立叶变换的信号光和参考光同时照射在光记录介质上；以及将所述信号光记录为全息图。
-
公开(公告)号：CN101025942A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200610144449.0
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11C13/04 , G03H1/04
CPC classification number: G11B7/0065 , G11B7/128 , G11B7/2403 , G11B7/24044 , Y10S359/90
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和装置、全息图重现方法及光学记录介质。将信号光记录到光学记录介质上作为全息图的全息图记录方法包括以下步骤：通过在对入射相干光进行空间调制的空间光调制器上显示将调制区域分为多个区域的图案，而关于所述相干光的光轴对称地设置产生信号光的信号光区域和产生参考光的参考光区域；通过利用所述空间光调制器对所述入射相干光进行调制，来产生信号光和参考光；将从彼此对称布置的所述信号光区域和所述参考光区域产生的所述信号光和所述参考光同时且同轴地照射到反射型光学记录介质上；以及将所述信号光记录在所述光学记录介质上作为全息图。
-
公开(公告)号：CN1421378A
公开(公告)日：2003-06-04
申请号：CN02107444.5
申请日：2002-03-15
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B82Y10/00 , H01J1/304 , H01J9/025 , H01J2201/30469
Abstract: 空心石墨片结构具有以连续形状设置的至少一对空心石墨片材料，其中该对空心石墨片材料的相邻端以一个间隙彼此相对。
-
公开(公告)号：CN1406865A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02106682.5
申请日：2002-03-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: C01B31/02
CPC classification number: B32B1/08 , B32B9/00 , B32B9/007 , B32B9/04 , B82Y30/00 , C04B35/52 , C04B35/62218 , C04B2235/40 , C04B2235/402 , C04B2235/404 , C04B2235/408 , C04B2235/421 , C04B2235/428 , C04B2235/5288 , C04B2235/96 , Y10T428/2918 , Y10T428/2975
Abstract: 一种纳米线，包含内芯部分12和形成在内芯部分12周围的功能层14，其中内芯部分12由具有至少一层石墨片12a、12b的碳纳米管制成，并且功能层14具有至少一层改性的石墨片，其中的石墨片已被改性；此纳米线的生产方法；使用此纳米线的纳米网；此纳米网的生产方法；使用此纳米线的碳结构以及使用此纳米线的电子装置。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.022 seconds)
