-
公开(公告)号：CN107179656A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201610803421.7
申请日：2016-09-05
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: C22F1/047 , B21C1/26 , B21C23/186 , G03G5/102 , G03G5/00 , B21D22/02 , B21D37/10
Abstract: 本发明公开了一种金属圆筒的制造方法、电子照相感光体用基底的制造方法、电子照相感光体的制造方法以及冲压用金属块。金属圆筒的制造方法包括：制备具有如下表面的金属块，该表面被调整为使得距所述表面深度为10μm处的晶粒直径小于距所述表面深度为100μm处的晶粒直径，且距所述表面深度为10μm处的晶粒直径为30μm以上且120μm以下；以及通过对以所述表面作为底面的所述金属块进行冲压加工来形成圆筒。
-
公开(公告)号：CN108205247A
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201710413756.2
申请日：2017-06-05
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G5/102 , B05D1/18 , B05D2254/02 , B21C1/22 , B21C1/26 , B21C23/085 , B21C23/186 , G03G5/04 , G03G5/047 , G03G5/0517 , G03G5/0525 , G03G5/0542 , G03G5/0564 , G03G5/0614 , G03G5/0696 , G03G5/144 , G03G15/75 , G03G15/0233 , B24C1/06 , B24C11/00 , G03G21/1842
Abstract: 本发明涉及用于冲击压制的金属锭、制造金属锭的方法、圆筒形金属部件、制造圆筒形金属部件的方法、用于电子照相感光体的导电性基体、电子照相感光体、处理盒、图像形成设备。所述用于冲击压制的金属锭包括在冲击压制中接触阳模的金属锭的接触面，所述接触面的最大高度粗糙度Rz为20μm～50μm且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为150μm～400μm，在冲击压制中所述阳模与阴模组合使用。
-
公开(公告)号：CN103889077A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201310283579.2
申请日：2013-07-08
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G15/2053 , B32B3/02 , B32B15/017 , B32B15/043 , B32B15/06 , B32B15/08 , B32B15/18 , B32B15/20 , B32B25/20 , B32B27/281 , B32B27/285 , B32B2307/30 , B32B2307/306 , B32B2307/546 , B32B2307/732 , C25D11/022 , C25D11/08 , C25D11/10 , C25D11/18 , C25D11/26 , G03G15/2057 , H05B3/0095 , H05B3/34 , H05B2203/017
Abstract: 本发明涉及片材加热元件的制造方法、定影装置和图像形成设备。所述片材加热元件的制造方法包括：制备包含金属或合金的片材部件，对所述片材部件进行阳极氧化处理，直至所述片材部件仅表面层被氧化而其中心部分未被氧化。
-
公开(公告)号：CN101134384B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200710103879.2
申请日：2007-05-17
Applicant: 富士施乐株式会社
Inventor： 为政博史
CPC classification number: G03G15/2064 , G03G2215/2016 , G03G2215/2035 , Y10T428/12562 , Y10T428/12569 , Y10T428/31681 , Y10T428/31685 , Y10T428/31692 , Y10T428/31696 , Y10T428/31699 , Y10T428/31707
Abstract: 本发明提供了一种层积体及其制造方法、定影带、定影装置和成像装置。所述层积体包括金属层；和设置在所述金属层的至少一面上的树脂层或弹性层。其中，所述金属层包含导电金属层和设置在所述导电金属层的两面上的金属氧化物层。
-
公开(公告)号：CN101320245B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200710108974.1
申请日：2007-06-08
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G15/2053 , G03G2215/2048
Abstract: 本发明提供了一种层积体、环带、定影装置和成像设备，所述环带、定影装置和成像设备均使用了所述层积体。所述层积体包括含有非磁性金属结晶颗粒的发热层；和含有磁补偿合金的基层。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1920694A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200510131903.4
申请日：2005-12-15
Applicant: 富士施乐株式会社
Inventor： 为政博史
IPC: G03G15/20
CPC classification number: G03G15/2057 , G03G2215/2048
Abstract: 本发明提供了一种氟碳树脂涂覆部件，该氟碳树脂涂覆部件至少具有基材和形成在该基材上的防粘层，其中所述防粘层是通过烧结氟碳树脂颗粒而得到的薄膜，该防粘层的膜密度为98％或98％以上。本发明还提供一种所述氟碳树脂涂覆部件的制造方法，该方法至少包括将含有氟碳树脂颗粒的材料涂布在所述基材上和通过使用热等静压装置烧结该氟碳树脂颗粒。本发明还提供一种定影装置和具有该定影装置的成像设备，其中所述定影装置至少具有包括加热部件和加压部件的一对定影单元。所述加热部件和加压部件中的至少一个部件具有所述基材和所述防粘层。
-
公开(公告)号：CN101201578B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200710108573.6
申请日：2007-06-06
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G15/2064 , G03G2215/2035 , G03G2215/2048
Abstract: 本发明提供了一种层积体、环状带、定影装置和成像装置，所述层积体包含具有第一非磁性金属的晶粒的发热层和具有不同于所述第一非磁性金属的第二非磁性金属的基层。
-
公开(公告)号：CN100492216C
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200510131903.4
申请日：2005-12-15
Applicant: 富士施乐株式会社
Inventor： 为政博史
IPC: G03G15/20
CPC classification number: G03G15/2057 , G03G2215/2048
Abstract: 本发明提供了一种氟碳树脂涂覆部件，该氟碳树脂涂覆部件至少具有基材和形成在该基材上的防粘层，其中所述防粘层是通过烧结氟碳树脂颗粒而得到的薄膜，该防粘层的膜密度为98%或98%以上。本发明还提供一种所述氟碳树脂涂覆部件的制造方法，该方法至少包括将含有氟碳树脂颗粒的材料涂布在所述基材上和通过使用热等静压装置烧结该氟碳树脂颗粒。本发明还提供一种定影装置和具有该定影装置的成像设备，其中所述定影装置至少具有包括加热部件和加压部件的一对定影单元。所述加热部件和加压部件中的至少一个部件具有所述基材和所述防粘层。
-
公开(公告)号：CN101320245A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200710108974.1
申请日：2007-06-08
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G15/2053 , G03G2215/2048
Abstract: 本发明提供了一种层积体、环带、定影装置和成像设备，所述环带、定影装置和成像设备均使用了所述层积体。所述层积体包括含有非磁性金属结晶颗粒的发热层；和含有磁补偿合金的基层。
-
公开(公告)号：CN101251741A
公开(公告)日：2008-08-27
申请号：CN200710153380.2
申请日：2007-09-18
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G15/2007 , G03G15/2053 , G03G2215/2016
Abstract: 本发明提供一种加热装置、定影装置和成像装置。该加热装置具有产生磁场的磁场产生单元、发热层以及加热/旋转单元。所述发热层布置成与所述磁场产生单元相对，并至少通过所述磁场引发电磁感应而产生热。所述加热/旋转单元包括支撑所述发热层的支撑层，并具有n(n≥2)层金属层。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
22
records
(took 0.036 seconds)
