Patent search ap:("富士施乐株式会社") AND inv:"下田雅之" Page 1

1.

发明公开
显影装置有权

公开(公告)号：CN110941162A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201910170876.3

申请日：2019-03-07

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 加藤直 , 下田雅之

IPC: G03G15/08 , G03G15/09

Abstract: 本发明提供一种显影装置，消除因搬运显影剂的磁辊的磁性而产生的显影剂的滞留。由第1磁辊(40)吸附而搬运至上部的显影剂被具有倾斜的壁面(46a)的第1刮除壁(46)刮除，并朝向第1显影剂搬送路(18)送出。送出的显影剂被第1圆柱体(42)的周面接纳，第1圆柱体(42)的周面是具有与第1磁辊(40)的周面连续的周面，送出的显影剂被引导向第1显影剂搬送路(18)的上游端部。第1圆柱体(42)的长度是位于第1显影剂搬送路(18)的上游端部的显影剂不会被第1磁辊(40)的磁力吸附的长度。

Patent Agency Ranking