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公开(公告)号：CN117265486A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311183386.X
申请日：2023-09-14
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明公开了一种粉末冶金法制备FeCrAl靶材的方法，所述粉末冶金制备的FeCrAl靶材采用热等静压法制备而成，该方法包括以下制备步骤；步骤（1）、粉末准备以及惰性气体保护混粉：准备好纯度高的预制Fe粉、Cr粉、Al粉，按照目标靶材成分进行粉末配比，以及在惰性气体Ar下进行混粉；步骤（2）、包套焊接脱气：根据成型靶材尺寸设计制作包套，在热处理炉中高温下抽空包套。本发明通过采用粉末冶金中的热等静压法制备FeCrAl靶材，此方法相比于现有技术可以获得很高的致密度、晶粒细小、纯度高、靶材尺寸大的溅射靶材，以满足溅射的使用，由于磁控溅射所使用的靶材使用性能要求最重要就是纯度问题，本发明采用热等静压法制备的靶材可以很好的满足使用。
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公开(公告)号：CN117230410A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311386825.7
申请日：2023-10-25
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明涉及锆合金表面涂层制备技术领域，公开了一种锆合金表面磁控溅射FeCrAl/Cr复合涂层制备方法，包括与基体紧密联结的内部涂层以及与内层相结合的外部涂层，所述内部涂层为磁控溅射技术制备的Cr涂层，所述外部涂层为磁控溅射技术制备的FeCrAl涂层。本发明与其他涂层制备技术相比，如冷喷涂制备出来的涂层厚度难以控制，并且有气孔的存在；激光熔覆技术制备出来的涂层有可能发生了相变影响涂层使用；又如多弧离子镀制备的涂层表面会存在小液滴。而磁控溅射技术制备出来的涂层，表面没有明显的缺陷存在，且厚度可控，涂层内部致密没有气孔等缺陷存在。
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公开(公告)号：CN117286464A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311183431.1
申请日：2023-09-14
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明公开了一种熔炼铸锭制备FeCrAl靶材的方法，其特征在于：所述熔炼铸锭制备的FeCrAl靶材采用真空感应炉熔炼制备而成。该方法包括以下制备步骤；步骤（1）、备料：将准备好的纯Fe、Cr、Al金属按照目标靶材成分进行称重配比；步骤（2）、真空感应炉熔炼：将准备好的纯Fe、纯Cr金属以及脱氧剂分层放入准备好的坩埚中，然后合炉抽真空至80pa时，通电熔化炉料，待炉内压力为20pa左右。本发明通过采用熔炼铸锭中的真空铸锭法制备FeCrAl靶材，此方法可以获得很高成分均匀、杂质含量低、高密度、靶材尺寸大的溅射靶材，以满足溅射的使用，并且制备的FeCrAl溅射靶材相比较其他的制备技术，制备出来的靶材纯度较高、组织致密、并且性能优异，有着强度高，不易碎的优点。
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