一种半导体制冷结构以及冷凝器

    公开(公告)号:CN119289549A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202411810953.4

    申请日:2024-12-10

    Abstract: 本发明适用于半导体制冷领域,提供了一种半导体制冷结构以及冷凝器,半导体制冷结构包括制冷结构主体,制冷结构主体包括第一基板座和第二基板座,第一基板座与第二基板座之间设置有半导体制冷片;所述第一基板座上具有冷效应陶瓷基板;所述第二基板座上具有热效应陶瓷基板;所述第二基板座的背面固定设置有散热基座,散热基座与热效应陶瓷基板接触连接;所述冷凝器包括上述实施例提供的半导体制冷结构,冷凝器包括冷凝基座,冷凝基座贴合固定在冷效应陶瓷基板上。本发明气流通道内的多个导流板可以相互交错,在一定程度上延长了气流通道内气流的流动路径,提高对热效应陶瓷基板的散热效果,保证该半导体制冷结构冷效应侧的制冷效果。

    一种半导体制冷结构以及冷凝器

    公开(公告)号:CN119289549B

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202411810953.4

    申请日:2024-12-10

    Abstract: 本发明适用于半导体制冷领域,提供了一种半导体制冷结构以及冷凝器,半导体制冷结构包括制冷结构主体,制冷结构主体包括第一基板座和第二基板座,第一基板座与第二基板座之间设置有半导体制冷片;所述第一基板座上具有冷效应陶瓷基板;所述第二基板座上具有热效应陶瓷基板;所述第二基板座的背面固定设置有散热基座,散热基座与热效应陶瓷基板接触连接;所述冷凝器包括上述实施例提供的半导体制冷结构,冷凝器包括冷凝基座,冷凝基座贴合固定在冷效应陶瓷基板上。本发明气流通道内的多个导流板可以相互交错,在一定程度上延长了气流通道内气流的流动路径,提高对热效应陶瓷基板的散热效果,保证该半导体制冷结构冷效应侧的制冷效果。

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