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公开(公告)号:CN115411032B
公开(公告)日:2023-01-13
申请号:CN202211362345.2
申请日:2022-11-02
Applicant: 季华实验室(CN)
IPC: H01L27/092 , H01L27/15 , H01L33/62 , H01L21/8238
Abstract: 本公开涉及半导体领域的CMOS集成电路基板、其制备方法及显示面板,该电路基板包括:CMOS集成电路驱动层,包括初始键合区域和扩展键合区域,扩展键合区域位于初始键合区域的至少一侧;重布线层,设置于至少一侧的至少部分扩展键合区域内;重布线层包括至少一条第一线路和若干条第二线路,第一线路的第一端分布在重布线层靠近CMOS集成电路驱动层的一侧并与CMOS集成电路驱动层电连接;第一线路与第二线路电连接;第二线路的第二端在重布线层背离CMOS集成电路驱动层的一侧阵列分布;重布线层用于电连接CMOS集成电路驱动层和发光像素单元。通过在至少部分扩展键合区域上重新布线,增大键合区域,提高了CMOS上表面利用率。