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公开(公告)号:CN112634743B
公开(公告)日:2022-06-17
申请号:CN202011620687.0
申请日:2020-12-31
Applicant: 季华实验室
IPC: G09F3/02
Abstract: 光学防伪结构及其制作方法,涉及光学防伪结构技术领域,光学防伪结构,包括从下往上依次层叠的第一金属层、中间介质层、第二金属层、黏贴层,还设有若干个隔槽,隔槽上下贯穿中间介质层和第二金属层,且为闭环的环形槽,第一金属层与每个隔槽所围区域内的中间介质层、第二金属层共同构成一个显色单元,显色单元为FP腔显色单元,黏贴层可剥离,设置隔槽的结构,使得黏贴层被剥离时,第二金属层的各个显色单元以外的部分随黏贴层一同被剥离,以使各个显色单元在被光照时共同呈现第一防伪图像。其制作方法为依次制作第一金属层、中间介质层、第二金属层和黏贴层,在制作中间介质层后,先制作形成隔槽和偏振孔,再制作第二金属层。
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公开(公告)号:CN112634743A
公开(公告)日:2021-04-09
申请号:CN202011620687.0
申请日:2020-12-31
Applicant: 季华实验室
IPC: G09F3/02
Abstract: 光学防伪结构及其制作方法,涉及光学防伪结构技术领域,光学防伪结构,包括从下往上依次层叠的第一金属层、中间介质层、第二金属层、黏贴层,还设有若干个隔槽,隔槽上下贯穿中间介质层和第二金属层,且为闭环的环形槽,第一金属层与每个隔槽所围区域内的中间介质层、第二金属层共同构成一个显色单元,显色单元为FP腔显色单元,黏贴层可剥离,设置隔槽的结构,使得黏贴层被剥离时,第二金属层的各个显色单元以外的部分随黏贴层一同被剥离,以使各个显色单元在被光照时共同呈现第一防伪图像。其制作方法为依次制作第一金属层、中间介质层、第二金属层和黏贴层,在制作中间介质层后,先制作形成隔槽和偏振孔,再制作第二金属层。
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