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发明公开
一种横流式薄膜沉积反应器审中-实审

公开(公告)号：CN115928050A

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202211605063.0

申请日：2022-12-14

申请人： 天津大学

发明人： 王拓 , 巩金龙 , 王欣妍 , 刘斌 , 裴春雷 , 张恭 , 郭岚心

IPC分类号： C23C16/455

摘要： 本发明属于半导体薄膜沉积技术领域，公开了一种横流式薄膜沉积反应器，反应腔室设置有气体入口、气体出口和用于样品进出的快开门；反应腔室在气体入口和样品台之间设置有挡板式气体再分布器，反应腔室外部设置有第一加热器，快开门的大气一侧装载有第二加热装置；快开门还可以通过散热法兰与反应腔室连接，并且通过橡胶密封圈实现密封。本发明通过挡板式气体再分布器计对气体入口处气流的扰动，调节进入反应腔室的气体流动模式，确保气体流速的均匀分布，从而实现样品表面温度的均匀分布，获得了稳定且流速分布均匀的层流流场，消除了大容器反应腔室内的涡流死区，且避免了传统薄膜沉积反应器中的莲蓬头气体再分布器、多孔进气喷嘴等复杂结构。