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发明公开
成膜装置、成膜方法和成膜体审中-实审

公开(公告)号：CN115552054A

公开(公告)日：2022-12-30

申请号：CN202180025863.2

申请日：2021-03-31

Applicant: 大阪瓦斯株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所

Inventor： 真锅享平 , 桧垣胜己 , 大西久男 , 越后满秋 , 曾木忠幸 , 明渡纯 , 青柳伦太郎 , 松井浩明 , 筱田健太郎 , 津田弘树

IPC: C23C24/04 , B05B7/14

Abstract: 提供能够大量长时间稳定供给陶瓷原料粉，能够形成均质且致密的膜的成膜装置。成膜装置1，其在基材K上形成膜，其具有将使陶瓷原料粉分散在气体中得到的气溶胶从喷出端10a向基材K喷出的气溶胶输送路10，气溶胶输送路10中，喷出端10a的流路截面是面积为10mm2以上的大致圆形。

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