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发明公开
紫外线照射装置审中-实审

公开(公告)号：CN119907697A

公开(公告)日：2025-04-29

申请号：CN202380066591.X

申请日：2023-11-09

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 越山达贵 , 田中利夫 , 小山千佳

IPC: A61L2/10 , A61L2/24

Abstract: 紫外线照射装置包括照射部(11)和控制部(13)，照射部(11)照射紫外线，控制部(13)以反复地进行第一模式(M1)和第二模式(M2)的方式控制所述照射部(11)，在第一模式(M1)下，使照射部(11)以规定期间内每单位面积上的紫外线的照射量小于基准照射量的方式照射紫外线，在第二模式(M2)下，使照射部(11)以所述规定期间内每单位面积上的紫外线的照射量为所述基准照射量以上的方式照射紫外线。

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