公开(公告)号：CN116239314A

公开(公告)日：2023-06-09

申请号：CN202111485456.8

申请日：2021-12-07

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 石井大贵 ,  汤紫珺 ,  前平健 ,  三桥尚志

IPC: C03C17/42 ,  C03C10/04 ,  C03C10/10

Abstract: 本发明的课题在于提供一种具有高摩擦耐久性的表面处理层的物品。解决方案为一种物品，其具有基材、位于上述基材上的中间层、以及位于上述中间层上且由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂形成的表面处理层，其中，上述基材为含有透锂长石结晶质相和硅酸锂结晶质相的陶瓷玻璃，上述中间层包含氧化铝和氧化硅的第一层、以及位于上述第一层上的氧化硅的第二层。

公开(公告)号：CN119191726A

公开(公告)日：2024-12-27

申请号：CN202310708700.5

申请日：2023-06-14

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 汤紫珺 ,  黄盛辉 ,  福田矩章 ,  前平健 ,  吉田知弘

IPC: C03C23/00 ,  C03C17/42

Abstract: 本发明的目的在于提高一种具有防反射膜的基材的新型表面处理方法。本发明的具有防反射膜的基材的处理方法包括：实施使防反射膜的表面的至少一部分的区域平滑的处理的工序；在上述使防反射膜的表面的至少一部分的区域平滑的处理后的防反射膜的表面形成含有SiO2的层的工序；和在上述含有SiO2的层的表面的至少一部分的区域适用表面处理剂，形成表面处理层的工序。

公开(公告)号：CN118339124A

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN202280080164.2

申请日：2022-12-06

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 石井大贵 ,  汤紫珺 ,  前平健 ,  三桥尚志

IPC: C03C17/38 ,  C03C3/083 ,  C03C10/12

Abstract: 本发明提供一种具有基材、中间层和表面处理层的物品，上述中间层位于上述基材上，上述表面处理层位于上述中间层上，且由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂形成，上述基材为含有透锂长石结晶质相和锂硅酸盐结晶质相的陶瓷玻璃，上述中间层含有：氧化铝和氧化硅的第一层；和位于上述第一层上的氧化硅的第二层。