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公开(公告)号：CN103196772A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310113726.1
申请日：2013-04-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及脉冲激光沉积镀膜领域，公开了一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的方法。首先，在脉冲沉积镀膜过程中，用激光诱导击穿光谱（LIBS）测量沉积的薄膜中各个成分化学计量比；然后，用石英晶体微天平（QCM）测量薄膜总沉积量；最后，将LIBS的结果和QCM的结果相结合，得到薄膜中各成分的质量。本发明基于PLD技术、LIBS技术、QCM测膜厚技术，将LIBS和QCM相结合，弥补了LIBS定量分析比较困难，QCM不能进行物质分辨的不足。本发明能够在脉冲激光沉积镀膜过程中，实时原位在线测量薄膜化学计量比，不会对镀膜过程有干扰，并且方法简单，易于实现。
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公开(公告)号：CN103196773A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310113758.1
申请日：2013-04-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及脉冲激光沉积镀膜领域，公开了一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置，包括：脉冲沉积(PLD)镀膜系统，激光诱导击穿光谱（LIBS）测量系统，石英晶体微天平（QCM）测量系统。本发明基于脉冲激光沉积镀膜技术、激光诱导击穿光谱技术、石英晶体微天平测膜厚技术，能实时原位在线测量脉冲激光沉积镀膜薄膜化学计量比及各成分质量，且不会对镀膜过程有干扰，并且搭建简单，易于操作；适用于脉冲激光沉积镀膜领域。
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公开(公告)号：CN103105376A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201310027896.8
申请日：2013-01-25
Applicant: 大连理工大学
IPC: G01N21/35
Abstract: 本发明涉及光学诊断领域，公开了一种原位分析聚变装置第一镜表面杂质的方法，首先测量并记录原始第一镜的太赫兹时域波谱，然后测量磁约束聚变装置运行一段时间后载有杂质灰尘的第一镜表面反射太赫兹时域波谱；将两者在有效频域内分别进行傅里叶变换，并进一步得到聚变装置运行过后沉积在第一镜表面灰尘杂质层的相对反射率谱，将其与计算机数据库中所有物质的太赫兹吸收峰相比较；如果数据库中某种物质的特征吸收峰重合，就证明第一境表面杂质灰尘中含有该物质。本发明是一种无损检测方法，可以有效地检测沉积杂质的物理化学信息；由于太赫兹波在聚等离子体及真空腔室内传播过程损耗极小，可以实现远距离原位在线诊断，信噪比较高，稳定性好；依据本发明，可以开发出小型，高效，直观的第一镜表面检测设备。
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公开(公告)号：CN103105368A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201310027887.9
申请日：2013-01-25
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种分析聚变装置第一镜杂质沉积层厚度及其结构的方法，本发明是一种无损检测第一镜表面杂质沉积层厚度及结构的方法，可以直观的显示杂质沉积层的成分信息，且样品无需预处理，实用性强。太赫兹波在等离子体及真空环境下传播损耗小，可以实现远距离原位在线诊断。本发明能够在磁约束聚变装置运行过程中原位分析第一镜表面杂质沉积、分布特点，有助于理解磁约束聚变装置运行过程中杂质灰尘沉积，氘氚燃料滞留等PSI问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103196774B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201310113830.0
申请日：2013-04-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及核聚变领域，公开了一种测量材料耐烧蚀特性的装置包括：真空系统、激光烧蚀系统、激光诱导击穿光谱（LIBS）测量系统、石英晶体微天平（QCM）测量系统。本发明基于激光烧蚀技术、LIBS技术、QCM测膜厚技术，作为离子枪轰击测量的补充，利用激光烧蚀的方法评估材料的耐烧蚀特性，能够得出材料各个组成成分的烧蚀率，为评估已使用的和寻找更适合托卡马克稳定运行的第一壁材料提供一种可行的检测手段。
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公开(公告)号：CN103196772B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201310113726.1
申请日：2013-04-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及脉冲激光沉积镀膜领域，公开了一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的方法。首先，在脉冲沉积镀膜过程中，用激光诱导击穿光谱（LIBS）测量沉积的薄膜中各个成分化学计量比；然后，用石英晶体微天平（QCM）测量薄膜总沉积量；最后，将LIBS的结果和QCM的结果相结合，得到薄膜中各成分的质量。本发明基于PLD技术、LIBS技术、QCM测膜厚技术，将LIBS和QCM相结合，弥补了LIBS定量分析比较困难，QCM不能进行物质分辨的不足。本发明能够在脉冲激光沉积镀膜过程中，实时原位在线测量薄膜化学计量比，不会对镀膜过程有干扰，并且方法简单，易于实现。
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公开(公告)号：CN103196773B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201310113758.1
申请日：2013-04-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及脉冲激光沉积镀膜领域，公开了一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置，包括：脉冲沉积(PLD)镀膜系统，激光诱导击穿光谱（LIBS）测量系统，石英晶体微天平（QCM）测量系统。本发明基于脉冲激光沉积镀膜技术、激光诱导击穿光谱技术、石英晶体微天平测膜厚技术，能实时原位在线测量脉冲激光沉积镀膜薄膜化学计量比及各成分质量，且不会对镀膜过程有干扰，并且搭建简单，易于操作；适用于脉冲激光沉积镀膜领域。
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公开(公告)号：CN103105376B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201310027896.8
申请日：2013-01-25
Applicant: 大连理工大学
IPC: G01N21/3586 , G01N21/94
Abstract: 本发明涉及光学诊断领域，公开了一种原位分析聚变装置第一镜表面杂质的方法，首先测量并记录原始第一镜的太赫兹时域波谱，然后测量磁约束聚变装置运行一段时间后载有杂质灰尘的第一镜表面反射太赫兹时域波谱；将两者在有效频域内分别进行傅里叶变换，并进一步得到聚变装置运行过后沉积在第一镜表面灰尘杂质层的相对反射率谱，将其与计算机数据库中所有物质的太赫兹吸收峰相比较；如果数据库中某种物质的特征吸收峰重合，就证明第一境表面杂质灰尘中含有该物质。本发明是一种无损检测方法，可以有效地检测沉积杂质的物理化学信息；由于太赫兹波在聚等离子体及真空腔室内传播过程损耗极小，可以实现远距离原位在线诊断，信噪比较高，稳定性好；依据本发明，可以开发出小型，高效，直观的第一镜表面检测设备。
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