一种吡啶废气深度处理的装置

    公开(公告)号:CN111744361B

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202010650627.7

    申请日:2020-07-08

    Abstract: 本发明属于工业废气处理领域,提供了一种吡啶废气深度处理的装置,包括吸收系统、催化臭氧氧化系统、硫自养反硝化系统以及吸收液循环补充系统。废气与吸收液同时进入吸收系统,完成对吡啶的吸收后,吸收液自流进入催化臭氧氧化系统中。在催化剂床层中吸收液经过催化臭氧氧化反应的处理,并从催化臭氧反应塔上部溢流出水进入硫自养反硝化系统。在催化臭氧化系统出水进入硫自养反硝化系统的同时,硫自养反硝化试剂经过充分搅拌后一同被添加至硫自养反硝化系统当中。在硫自养反硝化系统中,溶液中残留的总氮得到了进一步的处理。该装置简单、自动化程度高、可操作性强,根本上解决了在吡啶废气的处理过程中氮氧化物的排放问题。

    一种吡啶废气深度处理的装置

    公开(公告)号:CN111744361A

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN202010650627.7

    申请日:2020-07-08

    Abstract: 本发明属于工业废气处理领域,提供了一种吡啶废气深度处理的装置,包括吸收系统、催化臭氧氧化系统、硫自养反硝化系统以及吸收液循环补充系统。废气与吸收液同时进入吸收系统,完成对吡啶的吸收后,吸收液自流进入催化臭氧氧化系统中。在催化剂床层中吸收液经过催化臭氧氧化反应的处理,并从催化臭氧反应塔上部溢流出水进入硫自养反硝化系统。在催化臭氧化系统出水进入硫自养反硝化系统的同时,硫自养反硝化试剂经过充分搅拌后一同被添加至硫自养反硝化系统当中。在硫自养反硝化系统中,溶液中残留的总氮得到了进一步的处理。该装置简单、自动化程度高、可操作性强,根本上解决了在吡啶废气的处理过程中氮氧化物的排放问题。

    一种石墨生产废水氟离子与硝态氮同时去除的装置

    公开(公告)号:CN110776205A

    公开(公告)日:2020-02-11

    申请号:CN201911124677.5

    申请日:2019-11-18

    Abstract: 本发明提供了一种石墨生产废水氟离子与硝态氮同时去除的装置,属于工业废水处理技术领域。调节池中废水经进水泵通入混药池中,加药泵将加药箱中的药剂泵入混药池;药剂、石墨生产废水在混药池中混合均匀后,于加药池上部溢流出水进入斜板沉淀池,斜板沉淀池用于沉淀混药池中产生的氟化钙沉淀从而实现废水中氟离子的去除。斜板沉淀池出水随后进入硫自养反硝化UASB生物反应器进行硝态氮的去除。该装置简单、产泥量小、自动化程度高,处理后的出水浓度可实现达标排放或者进一步处理要求。

    一种石墨生产废水氟离子与硝态氮同时去除的装置

    公开(公告)号:CN211111599U

    公开(公告)日:2020-07-28

    申请号:CN201921984382.0

    申请日:2019-11-18

    Abstract: 本实用新型提供了一种石墨生产废水氟离子与硝态氮同时去除的装置,属于工业废水处理技术领域。调节池中废水经进水泵通入混药池中,加药泵将加药箱中的药剂泵入混药池;药剂、石墨生产废水在混药池中混合均匀后,于加药池上部溢流出水进入斜板沉淀池,斜板沉淀池用于沉淀混药池中产生的氟化钙沉淀从而实现废水中氟离子的去除。斜板沉淀池出水随后进入硫自养反硝化UASB生物反应器进行硝态氮的去除。该装置简单、产泥量小、自动化程度高,处理后的出水浓度可实现达标排放或者进一步处理要求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种吡啶废气深度处理的装置

    公开(公告)号:CN212549029U

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN202021323451.6

    申请日:2020-07-08

    Abstract: 本实用新型属于工业废气处理领域,提供了一种吡啶废气深度处理的装置,包括吸收系统、催化臭氧氧化系统、硫自养反硝化系统以及吸收液循环补充系统。废气与吸收液同时进入吸收系统,完成对吡啶的吸收后,吸收液自流进入催化臭氧氧化系统中。在催化剂床层中吸收液经过催化臭氧氧化反应的处理,并从催化臭氧反应塔上部溢流出水进入硫自养反硝化系统。在催化臭氧化系统出水进入硫自养反硝化系统的同时,硫自养反硝化试剂经过充分搅拌后一同被添加至硫自养反硝化系统当中。在硫自养反硝化系统中,溶液中残留的总氮得到了进一步的处理。该装置简单、自动化程度高、可操作性强,根本上解决了在吡啶废气的处理过程中氮氧化物的排放问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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