公开(公告)号：CN100338732C

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN200510006898.4

申请日：2005-02-05

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 木村善和 ,  山本悟史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304

Abstract: 一种基板处理装置，对不要进行规定处理的基板，能可靠排除进行该规定处理的处理单元引起的影响。基板处理装置(1)中，作为基板的运送路径，设置经由蚀刻单元(50)和分离单元(51)的主运送路径(MTR)、绕过蚀刻单元(50)的副运送路径(STR1)(传送带(30))和绕过分离单元(50)的副运送路径(STR2)(缓冲贮存器(41))。在主运送路径(MTR)和副运送路径(STR1、STR2)间设置进行基板交接的运送机械手(20～22)。这种构成中，例如不进行蚀刻处理的基板，控制部(80)选择副运送路径(STR1)作为运送路径，通过运送机械手(20)运送到传送带(30)，绕过蚀刻单元(50)进行运送。

公开(公告)号：CN1655322A

公开(公告)日：2005-08-17

申请号：CN200510006898.4

申请日：2005-02-05

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 木村善和 ,  山本悟史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304

Abstract: 一种基板处理装置，对不要进行规定处理的基板，能可靠排除进行该规定处理的处理单元引起的影响。基板处理装置(1)中，作为基板的运送路径，设置经由蚀刻单元(50)和分离单元(51)的主运送路径(MTR)、绕过蚀刻单元(50)的副运送路径(STR1)(传送带(30))和绕过分离单元(50)的副运送路径(STR2)(缓冲贮存器(41))。在主运送路径(MTR)和副运送路径(STR1、STR2)间设置进行基板交接的运送机械手(20～22)。这种构成中，例如不进行蚀刻处理的基板，控制部(80)选择副运送路径(STR1)作为运送路径，通过运送机械手(20)运送到传送带(30)，绕过蚀刻单元(50)进行运送。