公开(公告)号：CN102208329B

公开(公告)日：2014-04-23

申请号：CN201110070885.9

申请日：2011-03-21

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 岸本卓也 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/02 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/465 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6875

Abstract: 一种基板处理装置具有：基板保持单元，其用于将基板保持为水平姿势；旋转单元，其使上述基板保持单元所保持的基板围绕铅垂轴线旋转；第一喷嘴，其具有第一相向面和形成于第一相向面的处理液喷出口，该第一相向面与通过上述旋转单元旋转的基板的下表面上的上述周边部的内侧的区域从该基板的下表面隔开间隔地相向；通过从上述处理液喷出口喷出的处理液，使基板的下表面与上述第一相向面之间的空间成为液密闭状态。

公开(公告)号：CN102208329A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201110070885.9

申请日：2011-03-21

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 岸本卓也 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/02 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/465 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6875

Abstract: 一种基板处理装置具有：基板保持单元，其用于将基板保持为水平姿势；旋转单元，其使上述基板保持单元所保持的基板围绕铅垂轴线旋转；第一喷嘴，其具有第一相向面和形成于第一相向面的处理液喷出口，该第一相向面与通过上述旋转单元旋转的基板的下表面上的上述周边部的内侧的区域从该基板的下表面隔开间隔地相向；通过从上述处理液喷出口喷出的处理液，使基板的下表面与上述第一相向面之间的空间成为液密闭状态。