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公开(公告)号：CN111886131A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201980020702.7
申请日：2019-03-20
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明的课题在于不采用现有技术那样的多层结构而提供阻隔性优异的阻隔树脂膜。一种阻隔树脂膜，其为在树脂基材的表面形成有氧化铝蒸镀膜的阻隔树脂膜，在上述氧化铝蒸镀膜中分布有Al3所表示的元素键合结构部，飞行时间二次离子质谱法(TOF‑SIMS)中的最大Al3浓度元素键合结构部分的强度比例Al3/Al2O3×100为1以上20以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113906153B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202080039042.X
申请日：2020-06-11
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: [课题]提高蒸镀膜对于基材的密合性。[解决手段]阻隔膜具备：包含聚酯的基材和包含氧化铝的蒸镀膜。通过使用飞行时间二次离子质谱法从蒸镀膜侧对阻隔膜进行蚀刻，至少检测出元素键合Al2O3和元素键合CN。在基材与蒸镀膜的界面检测出的元素键合CN的峰的峰强度为元素键合Al2O3的强度的最大值的0.15倍以上。
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公开(公告)号：CN111867825B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN201980019890.1
申请日：2019-03-20
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 提供一种即使在热水处理后塑料基材与氧化铝蒸镀膜的密合性也良好、并且阻隔性能高、即所谓耐蒸煮性优异的具备氧化铝蒸镀膜的层积膜；包含该层积膜的阻隔性层积膜；以及使用了该阻隔性层积膜的阻隔性包装材料。特定了一种层积膜，其对于层积膜的氧化铝蒸镀膜，通过Cs(铯)离子枪、利用飞行时间二次离子质谱法(TOF‑SIMS)在基材膜表面与所形成的以氧化铝蒸镀膜为主体的蒸镀膜之间形成规定密合强度的过渡区，该过渡区包含通过利用TOF‑SIMS进行蚀刻而检测出的转变成氢氧化铝的元素键合Al2O4H，相对于利用TOF‑SIMS进行蚀刻所规定的氧化铝蒸镀膜，将由该转变的过渡区的比例所定义的转变成氢氧化铝的过渡区的转变率规定为5％以上60％以下，由此具备密合强度得到改善的阻隔性。
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公开(公告)号：CN113906153A
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202080039042.X
申请日：2020-06-11
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: [课题]提高蒸镀膜对于基材的密合性。[解决手段]阻隔膜具备：包含聚酯的基材和包含氧化铝的蒸镀膜。通过使用飞行时间二次离子质谱法从蒸镀膜侧对阻隔膜进行蚀刻，至少检测出元素键合Al2O3和元素键合CN。在基材与蒸镀膜的界面检测出的元素键合CN的峰的峰强度为元素键合Al2O3的强度的最大值的0.15倍以上。
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公开(公告)号：CN111886131B
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN201980020702.7
申请日：2019-03-20
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明的课题在于不采用现有技术那样的多层结构而提供阻隔性优异的阻隔树脂膜。一种阻隔树脂膜，其为在树脂基材的表面形成有氧化铝蒸镀膜的阻隔树脂膜，在上述氧化铝蒸镀膜中分布有Al3所表示的元素键合结构部，飞行时间二次离子质谱法(TOF‑SIMS)中的最大Al3浓度元素键合结构部分的强度比例Al3/Al2O3×100为1以上20以下。
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公开(公告)号：CN111867825A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980019890.1
申请日：2019-03-20
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 提供一种即使在热水处理后塑料基材与氧化铝蒸镀膜的密合性也良好、并且阻隔性能高、即所谓耐蒸煮性优异的具备氧化铝蒸镀膜的层积膜；包含该层积膜的阻隔性层积膜；以及使用了该阻隔性层积膜的阻隔性包装材料。特定了一种层积膜，其对于层积膜的氧化铝蒸镀膜，通过Cs(铯)离子枪、利用飞行时间二次离子质谱法(TOF‑SIMS)在基材膜表面与所形成的以氧化铝蒸镀膜为主体的蒸镀膜之间形成规定密合强度的过渡区，该过渡区包含通过利用TOF‑SIMS进行蚀刻而检测出的转变成氢氧化铝的元素键合Al2O4H，相对于利用TOF‑SIMS进行蚀刻所规定的氧化铝蒸镀膜，将由该转变的过渡区的比例所定义的转变成氢氧化铝的过渡区的转变率规定为5％以上60％以下，由此具备密合强度得到改善的阻隔性。
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