公开(公告)号：CN103748489B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201280041223.1

申请日：2012-08-29

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 西村祐行 ,  中尾吉秀 ,  川岛朋也 ,  山田一树 ,  鹿岛启二

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/13 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337

CPC classification number: G03F7/2022 ,  G02B5/3083 ,  G02F2001/133631 ,  G02F2413/09 ,  H04N13/337 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明针对适用于被动式三维图像显示的图案相位差膜，提供能够高精度地简单且大量制作的图案相位差膜的制造方法。与曝光处理的区域宽度相比使缝隙宽度更窄来制作供曝光处理的掩模（16）。

公开(公告)号：CN103765256B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201280041737.7

申请日：2012-08-02

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 西村裕行 ,  中尾吉秀 ,  川岛朋也 ,  鹿岛启二

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13363

CPC classification number: G02F1/133788 ,  B29D11/00788 ,  G02B5/201 ,  G02B5/3083 ,  G02B27/26 ,  G02F2001/133631 ,  G02F2413/09 ,  G03F1/42 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70791 ,  H04N13/337

Abstract: 本发明针对适用于被动式三维图像显示的图案相位差膜，提供能够高精度地简单且大量制作的图案相位差膜的制造方法。在供取向膜制作的掩模中使供曝光处理的缝隙（S）的宽度随着朝向该缝隙的长边方向的端部而逐渐变窄来制作该缝隙。

公开(公告)号：CN103765256A

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201280041737.7

申请日：2012-08-02

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 西村裕行 ,  中尾吉秀 ,  川岛朋也 ,  鹿岛启二

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13363

CPC classification number: G02F1/133788 ,  B29D11/00788 ,  G02B5/201 ,  G02B5/3083 ,  G02B27/26 ,  G02F2001/133631 ,  G02F2413/09 ,  G03F1/42 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70791 ,  H04N13/337

Abstract: 本发明针对适用于被动式三维图像显示的图案相位差膜，提供能够高精度地简单且大量制作的图案相位差膜的制造方法。在供取向膜制作的掩模中使供曝光处理的缝隙（S）的宽度随着朝向该缝隙的长边方向的端部而逐渐变窄来制作该缝隙。

公开(公告)号：CN103748489A

公开(公告)日：2014-04-23

申请号：CN201280041223.1

申请日：2012-08-29

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 西村裕行 ,  中尾吉秀 ,  川岛朋也 ,  山田一树 ,  鹿岛启二

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/13 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337

CPC classification number: G03F7/2022 ,  G02B5/3083 ,  G02F2001/133631 ,  G02F2413/09 ,  H04N13/337 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明针对适用于被动式三维图像显示的图案相位差膜，提供能够高精度地简单且大量制作的图案相位差膜的制造方法。与曝光处理的区域宽度相比使缝隙宽度更窄来制作供曝光处理的掩模（16）。