公开(公告)号：CN110036318B

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN201780075336.6

申请日：2017-12-07

Applicant: 夏普株式会社 ,  睿智弗尤德收购公司

Inventor： 锦博彦 ,  冈部达 ,  石田和泉 ,  村重正悟 ,  能谷敦子 ,  野中敏章 ,  吉田尚史

IPC: G02B5/20 ,  C09C1/48 ,  C08G77/04 ,  C08K3/04 ,  C08K9/06 ,  C08L83/04

Abstract: 本发明提供一种材料，其为黑矩阵用的组合物，其适于制造适用于高亮度的显示设备结构的、高耐热性且高遮光性的黑矩阵。使用一种黑矩阵用组合物，其特征在于，含有：(I)包含体积平均粒径为1～300nm的炭黑的黑色着色剂、(II)在酸性或者碱性催化剂的存在下将由预定的式子表示的硅烷化合物进行水解以及缩合而获得的硅氧烷聚合物、(III)表面改性二氧化硅微粒、(IV)热碱产生剂、以及(V)溶剂。

公开(公告)号：CN110036318A

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201780075336.6

申请日：2017-12-07

Applicant: 夏普株式会社 ,  睿智弗尤德收购公司

Inventor： 锦博彦 ,  冈部达 ,  石田和泉 ,  村重正悟 ,  能谷敦子 ,  野中敏章 ,  吉田尚史

IPC: G02B5/20 ,  C09C1/48 ,  C08G77/04 ,  C08K3/04 ,  C08K9/06 ,  C08L83/04

Abstract: 本发明提供一种材料，其为黑矩阵用的组合物，其适于制造适用于高亮度的显示设备结构的、高耐热性且高遮光性的黑矩阵。使用一种黑矩阵用组合物，其特征在于，含有：(I)包含体积平均粒径为1～300nm的炭黑的黑色着色剂、(II)在酸性或者碱性催化剂的存在下将由预定的式子表示的硅烷化合物进行水解以及缩合而获得的硅氧烷聚合物、(III)表面改性二氧化硅微粒、(IV)热碱产生剂、以及(V)溶剂。