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公开(公告)号：CN103033901B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201210277875.7
申请日：2012-08-07
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明涉及层叠型晶片透镜和其制造方法、多层透镜。在晶片级透镜（201、202）间的填充部（203）中利用毛细管现象渗入填充遮光性粘接剂（213）。由于在填充部（203）和透镜光学部（2011）的边界设置有突起部（2023），所以遮光性粘接剂（213）不会渗入到中空部（209）中。此外，形成有连结中空部（209）和外部的透气性膜（205），起到使中空部（209）的膨胀的空气向外部逃逸的作用。
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公开(公告)号：CN103813894A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201280046402.4
申请日：2012-07-23
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B29D11/00413 , B29C43/021 , B29C43/36 , B29C43/56 , B29C43/58 , B29C2043/568 , B29C2043/5808 , B29D11/0048 , B29L2011/0016
Abstract: 涉及本发明的透镜成型装置（100）具备：具有转印面（1a）的铸模（1）；具有转印面（2a）的铸模（2）；使提供给转印面（1a）上并且转印面（2a）被推压到其上的树脂材料加热并固化的加热装置（3a、3b）；以支撑装置（4）对树脂材料施加压力的方式进行控制的压力控制部（6）；以及在铸模（1、2）间施加电压，来形成电场的直流电源（7）。
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公开(公告)号：CN103033901A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201210277875.7
申请日：2012-08-07
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明涉及层叠型晶片透镜和其制造方法、多层透镜。在晶片级透镜（201、202）间的填充部（203）中利用毛细管现象渗入填充遮光性粘接剂（213）。由于在填充部（203）和透镜光学部（2011）的边界设置有突起部（2023），所以遮光性粘接剂（213）不会渗入到中空部（209）中。此外，形成有连结中空部（209）和外部的透气性膜（205），起到使中空部（209）的膨胀的空气向外部逃逸的作用。
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公开(公告)号：CN101995644B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201010249235.6
申请日：2010-08-06
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G03B13/32 , H04N5/2254 , H04N5/23212
Abstract: 本发明涉及摄像模块、成像透镜以及码读取方法。为了实现在拍摄近的被摄体与拍摄远的被摄体的两种情况下均具有良好的分辨率而能够满足所要求的规格，且构造简单的摄像模块，摄像模块具备：成像透镜，其景深被扩大的同时，像面弯曲被减小；及传感器，其设置在从成像透镜的相对于来自向日葵的白色光的最佳像面的位置，到成像透镜的相对于来自树木的白色光的最佳像面的位置之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102129116A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201110006716.9
申请日：2011-01-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G02B13/02 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明提供一种可通过在所拍摄的像的周边部分实现良好的分辨性能来减少光学特性发生恶化的忧虑的摄像镜头、摄像模块以及便携式信息设备，为此，在摄像镜头中，第一透镜的阿贝数超过45，第二透镜的阿贝数超过45，进而，当设第一透镜的焦距为f1、第二透镜的焦距为f2时，摄像镜头构成为满足公式-3.6＜f2/f1＜-2.5（1）。
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公开(公告)号：CN101995644A
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN201010249235.6
申请日：2010-08-06
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G03B13/32 , H04N5/2254 , H04N5/23212
Abstract: 本发明涉及摄像模块、成像透镜以及码读取方法。为了实现在拍摄近的被摄体与拍摄远的被摄体的两种情况下均具有良好的分辨率而能够满足所要求的规格，且构造简单的摄像模块，摄像模块具备：成像透镜，其景深被扩大的同时，像面弯曲被减小；及传感器，其设置在从成像透镜的相对于来自向日葵的白色光的最佳像面的位置，到成像透镜的相对于来自树木的白色光的最佳像面的位置之间。
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公开(公告)号：CN1961435A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200580017057.1
申请日：2005-05-27
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供膜厚均一、且结晶取向的有序性高的单一单分子膜及其累积膜、可以再现性良好地制造这些膜的有机化合物、导电特性良好的有机元件以及它们的制造方法。本发明提供通式(A1)(A2)(A3)－B－Si(A4)(A5)(A6)的有机化合物、使用该化合物的有机薄膜、具有该薄膜的有机元件，A1～A6为氢原子、卤素原子、烷氧基或烷基，消去反应性满足A1～A3＞A4～A6的关系。本发明提供有机薄膜和有机元件的制造方法，其中包括使上述有机化合物中的具有A1～A3的硅烷基与基板表面反应而形成单一单分子膜的工序、使用非水溶剂清洗除去未反应的有机化合物的工序和将存在于单分子膜的膜表面侧的未反应的硅烷基作为吸附位点而使上述的由有机化合物形成的单分子膜累积的工序。
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公开(公告)号：CN104582940A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380043846.7
申请日：2013-07-12
Applicant: 夏普株式会社
IPC: B29C71/02
CPC classification number: B29C71/02 , B29C71/0063 , B29C2071/022 , B29K2063/00
Abstract: 本发明的退火方法是对在成形工序中由成形材料成形得到的成形体(1)进行退火的退火方法，具有：应力释放工序，通过对成形体(1)进行加热，将成形体(1)的应力释放；和翘曲矫正工序，通过在对成形体(1)施加负荷的同时对成形体进行加热，对成形体(1)的翘曲进行矫正。由此，实现能够得到没有残余应力和应变的成形体的退火方法。
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公开(公告)号：CN102029722B
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201010298626.7
申请日：2010-09-29
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B29D11/00009 , G02B3/0031
Abstract: 本发明涉及透镜成型装置以及透镜成型方法。为了实现能以高精度且低成本成形的透镜成型装置及透镜成型方法，本发明的透镜成型装置具有金属模、绝缘基板、载物台、电源、开关以及UV照射装置。在绝缘基板上供给电介质树脂，将金属模的转印面推压到电介质树脂上，从而在电介质树脂上转印透镜形状。此时，利用电源向金属模施加电压，在金属模和绝缘基板之间形成电场时，因静电引力，电介质树脂以上端较细的尖形的状态被吸引到金属模的转印面。由此，在转印面和电介质树脂之间难以进入气泡，所以能够将高精度的透镜形状转印到电介质树脂上。
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