半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN105612608A

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201480055288.0

    申请日:2014-08-15

    Abstract: 本发明的半导体装置(100)包括:基板(11);第一薄膜晶体管(10A),其由基板(11)支承,具有主要包含结晶硅的第一有源区域(13c);和第二薄膜晶体管(10B),其由基板(11)支承,具有第二有源区域(17c),该第二有源区域(17c)主要包含具有结晶部分的氧化物半导体。

    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN105612608B

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201480055288.0

    申请日:2014-08-15

    Abstract: 本发明的半导体装置(100)包括:基板(11);第一薄膜晶体管(10A),其由基板(11)支承,具有主要包含结晶硅的第一有源区域(13c);和第二薄膜晶体管(10B),其由基板(11)支承,具有第二有源区域(17c),该第二有源区域(17c)主要包含具有结晶部分的氧化物半导体。

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